[发明专利]用于镀膜设备的破真空装置及镀膜设备

权利要求书

1.一种用于镀膜设备的破真空装置，其特征在于，包括与供气设备相连接的输气管路(1)，所述输气管路(1)用于向镀膜设备的第二腔室(3)内输送气体；其中，所述输气管路(1)至少包括第一管路节段(101)，所述第一管路节段(101)的进气端小于其出气端的截面面积，所述第一管路节段(101)的进气端与所述供气设备相连接，出气端用于与所述第二腔室(3)相连接。

2.根据权利要求1所述的用于镀膜设备的破真空装置，其特征在于，所述输气管路(1)还包括与所述第一管路节段(101)的出气端相连接的第二管路节段(102)，所述第二管路节段(102)与所述第一管路节段(101)之间具有夹角，所述第二管路节段(102)用于与所述第二腔室(3)相连接。

3.根据权利要求1-2任一项所述的用于镀膜设备的破真空装置，其特征在于，所述输气管路(1)还包括与所述第一管路节段(101)的进气端相连接的第三管路节段(103)，所述第一管路节段(101)与所述第三管路节段(103)之间具有夹角，所述第三管路节段(103)与所述供气设备相连接。

4.一种镀膜设备，其特征在于，包括：

第二腔室(3)；

镀膜载体，设置于所述第二腔室(3)内；以及权利要求1-3任一项所述的用于镀膜设备的破真空装置。

5.根据权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于，还包括设置于所述第二腔室(3)内部的第一腔室(2)，所述第一腔室(2)上设有多个与所述第一腔室(2)的内部相连通的气流通道(4)，且所述气流通道(4)与所述第二腔室(3)相连通。

6.根据权利要求5所述的镀膜设备，其特征在于，所述第二腔室(3)内对称设有两个所述第一腔室(2)，所述镀膜载体位于两所述第一腔室(2)之间。

7.根据权利要求5-6任一项所述的镀膜设备，其特征在于，所述输气管路(1)的出气端设有挡板(5)，所述输气管路(1)的出气端与所述挡板(5)之间具有间隙，且所述挡板(5)位于所述第一腔室(2)内。

8.根据权利要求5-6任一项所述的镀膜设备，其特征在于，所述第二腔室(3)包括相连通的第一腔体(301)和第二腔体(302)，所述第一腔室(2)和所述镀膜载体均位于所述第一腔体(301)内，所述第二腔体(302)内设有填充物料(6)。

9.根据权利要求5-6任一项所述的镀膜设备，其特征在于，所述第一腔室(2)包括设置于所述第二腔室(3)内侧壁的多个挡条(201)，多个所述挡条(201)之间围成所述第一腔室(2)的内部空间，且多个所述挡条(201)之间设有封板(202)，所述气流通道(4)设置于所述封板(202)上。

10.根据权利要求9所述的镀膜设备，其特征在于，所述封板(202)通过多个支撑件(7)与所述第二腔室(3)的内侧壁相连接。