[发明专利]一种光谱选择性低发射率的红外隐身涂层及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202310196455.4 | 申请日： | 2023-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN116430498A | 公开（公告）日： | 2023-07-14 |
| 发明（设计）人： | 吴晓宏;李杨;卢松涛;秦伟;洪杨 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28;C23C14/34;C23C14/08;C23C14/10;G02B1/18 |
| 代理公司： | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 | 代理人： | 王芳 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光谱 选择性 发射 红外 隐身 涂层 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种红外隐身涂层，其特征在于，该涂层为两个层膜叠加结构，每个所述的层膜由高折射率材料层和低折射率材料层周期交替叠加而成，第一个层膜的中心波长为λ1，第二个层膜的中心波长为λ2；其中，3≤λ1≤5μm，8≤λ2≤14μm，第一层膜位于基底材料上，第二层膜位于第一层膜上。
2.根据权利要求1所述的红外隐身涂层，其特征在于，第一个层膜由高折射率材料层和低折射率材料层至少交替叠加两个周期而成。
3.根据权利要求2所述的红外隐身涂层，其特征在于，第一个层膜由高折射率材料层和低折射率材料层交替叠加两个周期而成。
4.根据权利要求1所述的红外隐身涂层，其特征在于，第二个层膜由高折射率材料层和低折射率材料层至少交替叠加两个周期而成。
5.根据权利要求1所述的红外隐身涂层，其特征在于，第二个层膜由高折射率材料层和低折射率材料层交替叠加一个周期而成。
6.根据权利要求1所述的红外隐身涂层，其特征在于，高折射率材料层的折射率为3.8，低折射率材料层的折射率为1.4。
7.根据权利要求1所述的红外隐身涂层，其特征在于，高折射率材料层材质为W或Mo，低折射率材料层材质为SiO2或HfO2。
8.根据权利要求1所述的红外隐身涂层，其特征在于，第一个层膜厚度为1/4·λ1，第一个层膜厚度为1/4·λ2。
9.一种权利要求1所述的红外隐身涂层的制备方法，其特征在于，高折射率材料层和低折射率材料层均采用离子束溅射沉积工艺制备。
10.一种权利要求1所述的红外隐身涂层的应用，其特征在于，在3μm～5μm和8μm～14μm的红外窗口波段的发射率为0.1以下，在5μm～8μm的非窗口波段发射率为0.6以上。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨工业大学，未经哈尔滨工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310196455.4/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
