[发明专利]一种半导体厂务数据合理监控设定的方法在审

专利信息
申请号: 202310230912.7 申请日: 2023-03-11
公开(公告)号: CN116305905A 公开(公告)日: 2023-06-23
发明(设计)人: 师伟堂;于勃;邱利东;王文瑞 申请(专利权)人: 上海哥瑞利软件股份有限公司
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;G06F17/15;G06F119/02
代理公司: 上海申浩律师事务所 31280 代理人: 田敏
地址: 201199 上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 半导体 数据 合理 监控 设定 方法
【说明书】:

发明公开了一种半导体厂务数据合理监控设定的方法,通过建立各厂务管道的损耗函数模型,将传统的管道损耗黑箱数据呈现相对准确的模型数据,为半导体厂务供应端提供数据参考,同时依据设备端的供应需求,可以反推厂务端的实时供应条件,为半导体厂务及一般智能生产制造厂务提供一种精确的监控设定方式。本发明可以独立用于不同厂务供应系统的建模计算,对于厂务水、电、气及其他化学品建立不同的模型,即便是相同的厂务类型但供应方式不同情况下需要用独立的模型评估,通过精确数据建模和计算,将传统粗放式的依赖经验值来监控厂务的情况通过数据建模的方式达到精细化管理和精益生产的目的。

技术领域

本申请涉及半导体领域,具体涉及一种半导体厂务数据合理监控设定的方法。

背景技术

在半导体晶圆制造中,半导体厂务供应着整个FAB的水、电、气等基础必备生产条件,由于半导体厂务与生产设备间存在各种输送途径,包含各种水路、电缆、气路等,这些输送途径的运输损耗会直接影响到设备端的生产条件供应,同时半导体厂务端一般采取集成供应的方式,设备端的各种随机的生产状态导致厂务端数据的监控无法做到精确的一对一设定,这样的偏差和波动有可能造成生产端的机台运行状况波动,从而影响集成电路芯片的品质。本发明采用数据模型的建立方式,结合机台端的最低供应条件,给出一种计算厂务端数据合理监控设定的方法,为精确预警半导体厂务数据异常提供可靠的监控依据。

现有的半导体厂务管理系统依赖于FMCS集成系统,该系统显示各厂务的数据和状态,但无法对各厂务参数的监控提供合理的设定方式,只能依据经验设定监控范围,并且该监控范围是固定值的方式,特别是对于供应到设备端参数会受到设备运行状态(生产状态、闲置状态)的变化而引起厂务端对应参数的波动,而多台设备同时运行或者同时闲置的状态对厂务端输入同样会引起更大的波动,如果该波动足够大,有可能触及FMCS固定值监控的上下限而触发报警,造成误报警,无法精确的预测和监控真实的厂务异常状况。

FMCS系统,将半导体厂务数据通过传感器显示在FMCS系统界面,在FMCS系统界面依据经验值手动设定固定的监控上下限值。FMCS系统的监控上下限值的设定方式依据经验而定,没有合适的参考标准,无法做到精确的监控对应厂务数据的真实异常状况。半导体厂务在供应生产车间的输送管道中会有包含,压力、流量、热量等各方面的损耗,管路的走向和长度都会直接影响这些损耗的数值,这样就造成从半导体厂务供应端到生产车间设备端的供应是没有固定经验值可以参考,依据其他经验的参考值也是有失公允的。

发明内容

本发明提供了一种半导体厂务数据合理监控设定的方法,其目的在于,建立半导体厂务到生产车间各管路的损耗函数模型,通过该函数模型结合生产车间设备端的生产条件需求,反推对应的厂务端输入参数的准确范围,并结合动态计算的方式给出半导体厂务端各参数数据合理的监控设定方式。

本申请是通过以下技术方案实现的:

一种半导体厂务数据合理监控设定的方法,具体包括如下步骤:

(1)明确厂务端水、电、气与设备端供应的关系;

(2)明确厂务端与设备端的传输方式,包含是否共用电缆及共用电缆的设备列表,是否共用水路及共用水路的设备列表,是否共用气路及共用气路的设备列表;

(3)针对有共用传输装置的长度端及设备端做对应的数据收集,包含水、电、气及其他供应数据;

(4)针对不同传输装置分别建立数据模型,模拟传输装置的损耗函数

(5)损耗函数为多维矩阵函数,包含了厂务端和设备端的各种对应关系(一对一,一对多,多对一,多对多),对于不同的供应输送装置,可以建立不同的函数。输送装置已经包含输送路径的管路、输送管路的开关装置和转换装置以及输送中的损耗;

(6)一种物理的输送装置对应一个损耗函数模型,例如一组供电电缆为一个模型,一根供水水管为一个模型,一根供气管路为一个模型;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海哥瑞利软件股份有限公司,未经上海哥瑞利软件股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310230912.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top