[发明专利]探针位置校验方法、系统、电子设备及存储介质

权利要求书

1.一种探针位置校验方法，其特征在于，所述方法包括：

在校准板上确定第一初始视野中心；

获取目标探针的预设坐标偏移量，根据所述预设坐标偏移量和所述第一初始视野中心确定所述目标探针的扎针位置坐标；

移动所述目标探针至所述校准板上的所述扎针位置坐标处进行扎针，并基于所述第一初始视野中心获取所述校准板扎针后的扎针图像；

从所述扎针图像中确定所述目标探针扎针后的痕迹坐标，根据所述痕迹坐标和所述第一初始视野中心确定所述目标探针的实际坐标偏移量；

根据所述预设坐标偏移量和所述实际坐标偏移量之间的大小关系，得到所述目标探针的位置校验结果。

2.根据权利要求1所述的探针位置校验方法，其特征在于，所述在校准板上确定第一初始视野中心，包括：

在校准板的上表面粘贴薄片，并获取粘贴后所述校准板上的初始视野图像；

在所述初始视野图像中确定视野平整区域，并在所述视野平整区域中确定图像采集的校准位；

在所述校准位上，确定视野的中心位置为第一初始视野中心。

其中，所述薄片用于在所述目标探针扎进所述校准板后形成扎痕。

3.根据权利要求1所述的探针位置校验方法，其特征在于，所述预设坐标偏移量通过以下步骤得到：

在所述校准板上确定第二初始视野中心；

为所述目标探针选取任意的偏移位置，根据所述偏移位置和所述第二初始视野中心得到所述目标探针的预设坐标偏移量。

4.根据权利要求3所述的探针位置校验方法，其特征在于，所述目标探针有多个；

所述为所述目标探针选取任意的偏移位置，根据所述偏移位置和所述第二初始视野中心得到所述目标探针的预设坐标偏移量，包括：

按照等分的位置关系，为各个所述目标探针选取对应的偏移位置；

根据各个所述偏移位置和所述第二初始视野中心得到对应的所述目标探针的预设坐标偏移量；

所述根据所述预设坐标偏移量和所述实际坐标偏移量之间的大小关系，得到所述目标探针的位置校验结果，包括：

根据各个所述预设坐标偏移量和对应的所述实际坐标偏移量之间的大小关系，得到各个所述目标探针的子位置校验结果；

根据各个所述子位置校验结果得到整体的位置校验结果。

5.根据权利要求1所述的探针位置校验方法，其特征在于，所述方法还包括：

基于所述第一初始视野中心获取预设扎针坐标；

根据所述预设扎针坐标和所述位置校验结果，计算参考扎针坐标；

移动所述目标探针至所述校准板上的所述预设扎针坐标处进行扎针，基于所述第一初始视野中心获取所述校准板扎针后的实际扎针图像；

将所述参考扎针坐标与所述实际扎针图像进行比对，得到所述目标探针位置关系的检查结果。

6.根据权利要求5所述的探针位置校验方法，其特征在于，所述基于所述第一初始视野中心获取预设扎针坐标，包括：

基于所述第一初始视野中心等距规划纵向预设扎针坐标；

基于所述第一初始视野中心等距规划横向预设扎针坐标；

根据所述纵向预设扎针坐标和所述横向预设扎针坐标，得到预设扎针坐标。

7.根据权利要求1所述的探针位置校验方法，其特征在于，所述从所述扎针图像中确定所述目标探针扎针后的痕迹坐标，包括：

在所述扎针图像中标定所述目标探针扎针后的扎痕区域；

确定所述扎痕区域的中心位置在所述扎针图像中的像素坐标，并将所述像素坐标确定为所述目标探针扎针后的痕迹坐标。