[发明专利]一种吡啶衍生的四齿双阴离子配体中间体、该配体及其制备方法

说明书

本发明提供了一种吡啶衍生的四齿双阴离子配体中间体、该配体及其制备方法，所述配体化合物中间体具有如式TS‑1所示结构以式TS‑1所示化合物为原料能够合成新型的过渡金属含氮四齿双阴离子配体，合成方案可行，且该方法常规、简单，该配体可在金属‑配体成键以及多重键的构筑方面发挥重要作用。

技术领域

本发明属于化合物合成领域，具体涉及一种新型吡啶衍生的四齿双阴离子配体化合物中间体、该配体及其制备方法。

背景技术

近年来，关于过渡金属有机化合物报道不断增多，各种类型配体也被陆续报道。但相比于单齿或者双齿配体而言，多齿配体不但可以降低金属的配位数，而且可以消除分级配位的现象，增强配合物的稳定性。然而这类多齿配体的种类较少，之前报道的配体包含一种柔性全氮配体及其衍生物(如式A)，以及一类刚柔并济的“N₂O₂”配体(如式B)，它可与过渡金属形成中性、阳离子型以及多重键配合物。

然而，兼具刚性和柔性两种属性的多齿螯合全氮配体尚未报道，而且氮上可以取代多种取代基进行修饰；因此，设计一种刚柔并济的多齿螯合含氮配体稳定过渡金属，具有十分重要的意义。目前亟需提供一种合成方法简单，步骤较少，后处理容易的新型含氮四齿配体的合成方法，并用此来与过渡金属成键。

发明内容

本发明提供了一种刚柔并济的、新型吡啶修饰的含氮四齿双阴离子配体及其中间体，并阐明了其制备方法，该制备方法简单，步骤较少，后处理容易。

本发明的目的之一在于提供一种吡啶衍生的四齿双阴离子配体中间体，具有如式TS-1所示结构：

本发明发明人在大量研究和实验中意外发现了新型吡啶修饰的含氮四齿双阴离子配体中间体。本发明以式TS-1所示配体中间体为原料，能够制备新型的过渡金属有机配合物，在金属-配体成键以及多重键的构筑方面发挥重要作用。

本发明另一目的在于提供一种新型吡啶修饰含氮四齿双阴离子配体，所述配体具有通式(I)所示结构：

根据本发明的一些优选实施方式，R为LiNSiⁱPr₃，所述的配体化合物，具有如式4所示结构：

本发明再一目的在于提供所述的配体中间体的制备方法，包括以下步骤：

步骤1：将2-氨甲基吡啶与邻硝基苄溴反应，得到式3所示中间产物；

步骤2：将所述式3所示中间产物用氯化亚锡和甲醇还原，得到式TS-1所示化合物。

本发明的上述中间体的合成方法中，式3所示化合物也可采用本领域其他可以获得的方法制备，上述两个步骤的合成路线为本发明优选的式TS-1化合物的合成路线。所述式TS-1化合物采用上述合成路线，具有合成步骤短、反应产率高以及无需柱色谱分离等优点。

本发明式TS-1所示化合物的优选制备方法，包括以下步骤：

步骤1：将2-氨甲基吡啶与邻硝基苄溴以及碳酸铯加入到溶剂中加热反应，得到式3所示中间产物；

步骤2：将所述式3所示中间产物和氯化亚锡加入到无水甲醇中，加热反应，经过滤、萃取、干燥，制得式TS-1所示化合物；

优选的，步骤1中，所述溶剂为DMF；优选2-氨甲基吡啶、邻硝基苄溴、碳酸铯与DMF加入的比例为10g:20～60g:30～60g:100～500mL；本步骤80℃加热反应24h。