[发明专利]镭射效果的渲染方法、装置、设备及存储介质

权利要求书

1.一种镭射效果的渲染方法，其特征在于，所述方法包括：

获取待渲染模型的光线反射特性，基于所述光线反射特性构建所述待渲染模型在世界空间下的光照模型；

通过所述光照模型获取所述待渲染模型在模型空间下的顶点法线，并将所述模型空间下的顶点法线转换为视线空间下的顶点法线；

将所述视线空间下的顶点法线作为采样坐标，对镭射贴图中的纹理采样，得到第一纹理贴图；

基于所述光照模型获得所述待渲染模型的第二纹理贴图；

基于所述第一纹理贴图和所述第二纹理贴图对所述待渲染模型进行渲染，获得镭射效果的模型。

2.根据权利要求1所述的镭射效果的渲染方法，其特征在于，所述将所述模型空间下的顶点法线转换为视线空间下的顶点法线，包括：

利用矩阵变换算法，对所述模型空间下的顶点法线进行空间位置的变换，得到所述待渲染模型在视线空间下的顶点法线。

3.根据权利要求2所述的镭射效果的渲染方法，其特征在于，所述利用矩阵变换算法，对所述模型空间下的顶点法线进行空间位置的变换，得到所述待渲染模型在视线空间下的顶点法线，包括：

确定所述模型空间下的顶点法线的位置坐标，利用视图矩阵、投影矩阵对所述位置坐标进行变换，得到所述待渲染模型在视线空间下的顶点法线。

4.根据权利要求1所述的镭射效果的渲染方法，其特征在于，所述将所述视线空间下的顶点法线作为采样坐标，对镭射贴图中的纹理采样，得到第一纹理贴图，包括：

基于视线空间下的顶点法线的UV坐标确定采样坐标，其中，所述采样坐标包括至少两个采样通道；

基于至少一个所述采样通道依次对镭射贴图中的纹理采样，并将采样到的各通道纹理进行合成处理，得到第一纹理贴图。

5.根据权利要求4所述的镭射效果的渲染方法，其特征在于，所述基于视线空间下的顶点法线的UV坐标确定采样坐标，包括：

对所述基于视线空间下的顶点法线的UV坐标进行加权计算，并基于计算后的视线空间下的顶点法线的UV坐标确定采样坐标。

6.根据权利要求5所述的镭射效果的渲染方法，其特征在于，所述采样坐标包括第一采样通道和第二采样通道；所述基于至少一个所述采样通道依次对镭射贴图中的纹理采样，并将采样到的各通道纹理进行合成处理，得到第一纹理贴图，包括：

基于所述第一采样通道，对镭射贴图中横坐标轴方向的纹理进行采样，得到第一通道贴图；

基于所述第二采样通道，对镭射贴图中纵坐标轴方向的纹理进行采样，得到第二通道贴图；

将所述第一通道贴图和所述第二通道贴图中的一个进行翻转后，与另一个未翻转通道贴图合成，得到第一纹理贴图。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的镭射效果的渲染方法，其特征在于，所述基于所述第一纹理贴图和所述第二纹理贴图对所述待渲染模型进行渲染，获得镭射效果的模型，包括：

利用矩阵变换算法，将所述第一纹理贴图中的法线变换成世界空间下的法线，并将变换后的第一纹理贴图与所述第二纹理贴图融合，并添加至所述光照模型的表面，得到镭射效果的模型。

8.一种镭射效果的渲染装置，其特征在于，所述镭射效果的渲染装置包括：

获取模块，用于获取待渲染模型的光线反射特性，基于所述光线反射特性构建所述待渲染模型在世界空间下的光照模型；

变换模块，用于通过所述光照模型获取所述待渲染模型在模型空间下的顶点法线，并将所述模型空间下的顶点法线转换为视线空间下的顶点法线；

采样模块，用于将所述视线空间下的顶点法线作为采样坐标，对镭射贴图中的纹理采样，得到第一纹理贴图；基于所述光照模型获得所述待渲染模型的第二纹理贴图；

渲染模块，用于基于所述第一纹理贴图和所述第二纹理贴图对所述待渲染模型进行渲染，获得镭射效果的模型。