[发明专利]温室灌溉控制方法、装置、系统及设备

权利要求书

1.一种温室灌溉控制方法，其特征在于，包括：

获取温室中监测点的累积辐射值，根据每一栽培垄的中心位置与所述监测点在南北方向上的相对位置处理所述监测点的累积辐射值，确定每一栽培垄的累积辐射值；

在任一栽培垄的累积辐射值大于预设光辐射值的情况下，生成灌溉指令，所述灌溉指令用于指示对所述栽培垄进行灌溉；

所述栽培垄的垄长为东西朝向；

所述预设光辐射值是根据栽培作物品种、栽培作物生育期以及栽培作物所处季节确定的；

所述根据每一栽培垄的中心位置与所述监测点在南北方向上的相对位置处理所述监测点的累积辐射值，确定每一栽培垄的累积辐射值，包括：

对于任一栽培垄，获取所述栽培垄中心位置至温室后墙的第一距离，获取所述监测点到所述温室后墙的第二距离；

根据所述第一距离以及所述第二距离确定距离差值，并根据所述距离差值以及温室南北方向的总长度确定相对比值；

根据所述相对比值、第一预设常数以及所述监测点的累积辐射值确定相对辐射值；

根据当前时刻的时长比值、第二预设常数以及所述相对辐射值确定所述栽培垄的累积辐射值。

2.根据权利要求1所述的温室灌溉控制方法，其特征在于，在获取温室中监测点的累积辐射值之前，还包括：

根据温室中心区域上的任意一点确定所述监测点；

所述温室中心区域是根据温室在东西方向上的中点，向南北方向延伸确定的。

3.根据权利要求1所述的温室灌溉控制方法，其特征在于，所述获取温室中监测点的累积辐射值，包括：

获取第一时刻的第一总辐射值；

间隔预设时长后，获取第二时刻的第二总辐射值；

根据所述第一总辐射值、所述第二总辐射值以及所述预设时长确定温室中监测点的累积辐射值。

4.根据权利要求1所述的温室灌溉控制方法，其特征在于，所述生成灌溉指令，包括：

获取温室环境信息，所述温室环境信息包括日平均气温以及相对湿度；

根据所述日平均气温以及相对湿度确定温室作物的作物蒸散量；

将所述作物蒸散量确定为预设灌溉量，根据所述预设灌溉量生成所述灌溉指令；

所述灌溉指令用于指示根据所述预设灌溉量对所述栽培垄进行灌溉。

5.根据权利要求4所述的温室灌溉控制方法，其特征在于，在生成灌溉指令之后，还包括：

获取所述栽培垄的累积灌溉量；

在所述累积灌溉量大于或等于所述预设灌溉量的情况下，生成关闭指令；

所述关闭指令用于指示停止对所述栽培垄进行灌溉。

6.一种温室灌溉控制装置，其特征在于，包括：

确定单元：用于获取温室中监测点的累积辐射值，根据每一栽培垄的中心位置与所述监测点在南北方向上的相对位置处理所述监测点的累积辐射值，确定每一栽培垄的累积辐射值；

生成单元：用于在任一栽培垄的累积辐射值大于预设光辐射值的情况下，生成灌溉指令，所述灌溉指令用于指示对所述栽培垄进行灌溉；

所述栽培垄的垄长为东西朝向；

所述预设光辐射值是根据栽培作物品种、栽培作物生育期以及栽培作物所处季节确定的；

所述根据每一栽培垄的中心位置与所述监测点在南北方向上的相对位置处理所述监测点的累积辐射值，确定每一栽培垄的累积辐射值，包括：

对于任一栽培垄，获取所述栽培垄中心位置至温室后墙的第一距离，获取所述监测点到所述温室后墙的第二距离；

根据所述第一距离以及所述第二距离确定距离差值，并根据所述距离差值以及温室南北方向的总长度确定相对比值；

根据所述相对比值、第一预设常数以及所述监测点的累积辐射值确定相对辐射值；

根据当前时刻的时长比值、第二预设常数以及所述相对辐射值确定所述栽培垄的累积辐射值。

7.一种灌溉控制系统，其特征在于，包括：温室以及温室后墙，所述温室内分布有东西垄向的多个栽培垄；

在监测点位置固设有总辐射传感器，用于获取温室中监测点的累积辐射值；

还包括权利要求6所述的温室灌溉控制装置。