[发明专利]温室灌溉控制方法、装置、系统及设备

说明书

本发明提供一种温室灌溉控制方法、装置、系统及设备，涉及作物品种测试领域，该方法包括：获取温室中监测点的累积辐射值，根据每一栽培垄的中心位置与监测点在南北方向上的相对位置处理累积辐射值，确定每一栽培垄的累积辐射值；在任一栽培垄的累积辐射值大于预设光辐射值的情况下，生成灌溉指令，所述灌溉指令用于指示对所述栽培垄进行灌溉；所述栽培垄的垄长为东西朝向。本发明以东西垄向的布设方法对温室作物进行分区灌溉控制，以累计光辐射作为主要灌溉决策依据，动态调整各分区灌溉时机和灌水量，并利用动态规划方法调整灌溉顺序，保证灌溉均匀，以应对不同田畦间由光照差异、生长差异导致的对需水过程动态匹配的需求。

技术领域

本发明涉及自动灌溉领域，尤其涉及一种温室灌溉控制方法、装置、系统及设备。

背景技术

目前，在东西方向的栽培垄中，每一垄所接收的光辐射存在差异，故不同垄间的作物耗水情况也表现出明显的差异，此时采用集中灌溉的方式会降低灌溉水的利用效率。

发明内容

本发明提供一种温室灌溉控制方法、装置、系统及设备，用以解决现有技术中在东西垄向种植中灌溉水利用率较低的技术缺陷，提供了一种分区灌溉，根据不同垄的累积辐射值进行按需灌溉的技术方案。

第一方面，本发明提供了一种温室灌溉控制方法，包括：

获取温室中监测点的累积辐射值，根据每一栽培垄的中心位置与所述监测点在南北方向上的相对位置处理所述监测点的累积辐射值，确定每一栽培垄的累积辐射值；

在任一栽培垄的累积辐射值大于预设光辐射值的情况下，生成灌溉指令，所述灌溉指令用于指示对所述栽培垄进行灌溉；

所述栽培垄的垄长为东西朝向；

所述预设光辐射值是根据栽培作物品种、栽培作物生育期以及栽培作物所处季节确定的。

根据本发明提供的温室灌溉控制方法，在获取温室中监测点的累积辐射值之前，还包括：

根据温室中心区域上的任意一点确定所述监测点；

所述温室中心区域是根据温室在东西方向上的中点，向南北方向延伸确定的。

根据本发明提供的温室灌溉控制方法，所述获取温室中监测点的累积辐射值，包括：

获取第一时刻的第一总辐射值；

间隔预设时长后，获取第二时刻的第二总辐射值；

根据所述第一总辐射值、所述第二总辐射值以及所述预设时长确定温室中监测点的累积辐射值。

根据本发明提供的温室灌溉控制方法，所述根据每一栽培垄的中心位置与所述监测点在南北方向上的相对位置处理所述监测点的累积辐射值，确定每一栽培垄的累积辐射值，包括：

对于任一栽培垄，获取所述栽培垄中心位置至温室后墙的第一距离，获取所述监测点到所述温室后墙的第二距离；

根据所述第一距离以及所述第二距离确定距离差值，并根据所述距离差值以及温室南北方向的总长度确定相对比值；

根据所述相对比值、第一预设常数以及所述监测点的累积辐射值确定相对辐射值；

根据当前时刻的时长比值、第二预设常数以及所述相对辐射值确定所述栽培垄的累积辐射值。

根据本发明提供的温室灌溉控制方法，所述生成灌溉指令，包括：

获取温室环境信息，所述温室环境信息包括日平均气温以及相对湿度；

根据所述日平均气温以及相对湿度确定温室作物的作物蒸散量；

将所述作物蒸散量确定为预设灌溉量，根据所述预设灌溉量生成所述灌溉指令；