[发明专利]一种研磨液稳定保持的白垫及其制备工艺

权利要求书

1.一种研磨液稳定保持的白垫，包括抛光垫(1)、粘合层(2)和支撑层(3)，其特征在于；所述粘合层(2)均匀的涂覆在支撑层(3)的上、下周面上，两块所述抛光垫(1)通过粘合层(2)与支撑层(3)的上、下面粘贴并压紧；

白垫还包括限位环(4)，其设置于抛光垫(1)、粘合层(2)和支撑层(3)的外侧周面上。

2.根据权利要求1所述的一种研磨液稳定保持的白垫，其特征在于：所述抛光垫(1)包括上抛光垫(11)和下抛光垫(12)，其中，上抛光垫(11)上分布有若干第一引流通孔(5)，下抛光垫(12)上设置有多圈引流环槽(6)，其中，多圈引流环槽(6)内均分布有若干第二引流通孔(7)，其中，第二引流通孔(7)和第一引流通孔(5)位置以及数量相同且对应设置。

3.根据权利要求2所述的一种研磨液稳定保持的白垫，其特征在于：所述支撑层(3)上设置有若干中通孔(8)，中通孔(8)与第二引流通孔(7)和第一引流通孔(5)的位置以及数量相同且对应设置，中通孔(8)为圆柱结构，并且支撑层(3)采用聚醚多元醇交联聚合物制备而成。

4.根据权利要求3所述的一种研磨液稳定保持的白垫，其特征在于：所述第一引流通孔(5)和第二引流通孔(7)均为圆台结构，第一引流通孔(5)直径小的一端与中通孔(8)的一端连通，第二引流通孔(7)直径小的一端与中通孔(8)的另一端连通，第一引流通孔(5)和第二引流通孔(7)直径大的一端位于抛光垫(1)的外侧。

5.根据权利要求4所述的一种研磨液稳定保持的白垫，其特征在于：多圈所述引流环槽(6)同轴心设置，并且每圈引流环槽(6)内分布的第二引流通孔(7)等间距的分布。

6.根据权利要求5所述的一种研磨液稳定保持的白垫，其特征在于：所述限位环(4)包括上环(41)、侧环(42)和下环(43)，侧环(42)的上、下边沿分别与上环(41)和下环(43)固定，并且侧环(42)和下环(43)所在平面与侧环(42)垂直设置。

7.根据权利要求6所述的一种研磨液稳定保持的白垫，其特征在于：所述抛光垫(1)、粘合层(2)和支撑层(3)的外侧周面被侧环(42)包覆，上环(41)和下环(43)分别抵在上抛光垫(11)和下抛光垫(12)的外侧边缘上。

8.一种根据权利要求7所述的研磨液稳定保持的白垫的制备工艺，其特征在于：包括以下步骤：

S1：将液体状态的异氰酸酯封端的预聚物与中空微孔聚合物混合，真空脱气后倒入模具中，形成上抛光垫(11)和下抛光垫(12)，聚醚多元醇交联聚合物放入模具中真空脱气形成支撑层(3)；

S2：粘合层(2)均匀的涂覆在支撑层(3)的上、下圆周面上，将上抛光垫(11)和下抛光垫(12)分别压合在支撑层(3)两面的粘合层(2)上，形成初品；

S3：初品运输至钻孔机内，其中，钻孔机的钻头先在上抛光垫(11)上开出圆台状的第一引流通孔(5)，然后，钻孔机更换钻头顺着第一引流通孔(5)在支撑层(3)和下抛光垫(12)上开出圆柱状的中通孔(8)，钻孔机继续更换钻头，在下抛光垫(12)的中通孔(8)上开出第二引流通孔(7)，并在下抛光垫(12)沿着第二引流通孔(7)开出多圈引流环槽(6)；

S4：将熔化后的合金液体倒入模具中，分别制造上环(41)、侧环(42)和下环(43)，侧环(42)和下环(43)运输到抛光机中表面抛光，侧环(42)和下环(43)的内壁上涂胶，支撑层(3)和下抛光垫(12)插入侧环(42)中，直至下抛光垫(12)抵在下环(43)上，上环(41)抵在上抛光垫(11)上，上环(41)和侧环(42)的边沿通过点焊连接；

S5：上环(41)和侧环(42)的连接处通过抛光机加工打磨后完成成品。

9.如权利要求8所述的一种带微孔槽的抛光用白垫的制备工艺，其特征在于，针对步骤S5中，成品的硬度为60-90HRC。