[发明专利]一种偏光片裁切磨边处理加工工艺在审

专利信息
申请号: 202310339855.6 申请日: 2023-03-27
公开(公告)号: CN116372727A 公开(公告)日: 2023-07-04
发明(设计)人: 赵金宝;金银哲;张晓庆;赵金强;解蕊 申请(专利权)人: 深圳市宇创显示科技有限公司
主分类号: B24B9/14 分类号: B24B9/14;B24B55/06;B24B1/00;B26D1/36;B26D7/27;B26D7/06;B26D7/01;B08B1/00;B08B3/08;B01D47/06
代理公司: 深圳维启专利代理有限公司 44827 代理人: 董凯特
地址: 518110 广东省深圳市龙华区观*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 偏光 片裁切 磨边 处理 加工 工艺
【权利要求书】:

1.一种偏光片裁切磨边处理加工工艺,包括偏光片裁切磨边处理加工设备,该偏光片裁切磨边处理加工设备,按照工艺流程依次包括定位输送组件(1)、裁切组件(2)、其特征在于:淋喷降尘组件(3)、磨边组件(4)、磨抛组件(5)、清洗组件(6)以及人工分拣组件(7);

所述定位输送组件(1)包括操作平台(11),所述操作平台(11)上设有偏光片卷输入区域(12)、偏光片卷操作区域(13)和偏光片卷输出区域(14),所述裁切组件(2)位于偏光片卷操作区域(13)内;

所述淋喷降尘组件(3)包括淋喷件(34)和设于裁切组件(2)和偏光片卷之间的隔板(31),所述隔板(31)的内部设有若干组供裁切刀头(25)穿过的通孔(32),所述通孔(32)的内部设有若干组柔性挡条(33),所述淋喷件(34)包括设于操作平台(11)内且用于存储中性易挥发清洗剂的储剂箱(341)和负压泵(342),所述负压泵(342)的输入端连接于储剂箱(341)内,所述负压泵(342)的输出端设有喷淋管(343),所述喷淋管(343)的输出端设有若干组分管,所述分管的出口设有雾化喷头(344),所述雾化喷头(344)位于偏光片卷的两侧且靠近偏光片卷的上侧位置;

所述磨边组件(4)包括支撑板(41),所述支撑板(41)上设有上闭合块(42)和下闭合块(43),所述上闭合块(42)和下闭合块(43)之间相对运动,所述上闭合块(42)和下闭合块(43)的相对立面上均设有弧形凹陷部(44),所述下闭合块(43)的弧形凹陷部(44)上设有磨边块(45),所述上闭合块(42)的弧形凹陷部(44)上设有海绵块(46),所述海绵块(46)与磨抛组件(5)的输出端连通,所述支撑板(41)上设有用于驱动上闭合块(42)和下闭合块(43)的第一驱动组件(47);

所述磨抛组件(5)包括总管(51)和设于支撑板(41)上且可发生折叠的折叠囊(52),所述总管(51)上设有第一电磁控制阀(53),所述总管(51)的输入端位于储剂箱(341)内,所述总管(51)设有若干组出口,若干组出口与折叠囊(52)连通,所述折叠囊(52)上设有分管道(54),所述分管道(54)上设有第二电磁控制阀(55),所述分管道(54)的出口与海绵块(46)连接;

所述支撑板(41)和隔板(31)之间形成磨抛区域,所述磨抛区域的底部连通有收集箱(8),所述清洗组件(6)位于收集箱(8)的开口与磨抛区域之间,所述清洗组件(6)包括两组转动设于收集箱(8)上的转杆(61),两组所述转杆(61)之间设有缓冲纱布(62),所述转杆(61)横跨收集箱(8)和储剂箱(341)的上方,两组所述转杆(61)呈倾斜状结构,并在两组转杆(61)的倾斜端设有导料槽(63),所述导料槽(63)设于储剂箱(341)的内部;

所述人工分拣组件(7)位于导料槽(63)的内部。

2.根据权利要求1所述的偏光片裁切磨边处理加工工艺,其特征在于:所述操作平台(11)上设有传动组件(15),利用所述传动组件(15),用于将偏光片卷驱动至偏光片卷操作区域(13)内,所述传动组件(15)包括主动轴(151)和传动轴(152),所述偏光片卷设于传动轴(152)上,并通过主动轴(151)传动,所述操作平台(11)的上侧设有两组平行设置的挡板,两组所述挡板之间形成传动路径,所述偏光片卷的传动方向与传动路径一致,且两组所述挡板的相对里面上转动设有若干组滚轮。

3.根据权利要求1所述的偏光片裁切磨边处理加工工艺,其特征在于:所述偏光片卷操作区域(13)上设有两组呈相对设置的定位板(16),两组所述定位板(16)之间形成定位通道,所述定位通道的入口与偏光片卷输入区域(12)上传动路径的出口连通,所述定位通道的出口与偏光片卷输出区域(14)上传动路径的入口连通。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市宇创显示科技有限公司,未经深圳市宇创显示科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310339855.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top