[发明专利]一种用于半导体厂房的洁净室

权利要求书

1.一种用于半导体厂房的洁净室，包括洁净工作室(1),所述洁净工作室(1)包括用于高精度加工的洁净工作区(11)以及用于半导体前制程加工的加工服务区(12),所述洁净工作区(11)与所述加工服务区(12)之间设置有分隔区(13)，其特征在于：所述分隔区(13)内间隔设置有挡帘(2)，所述挡帘(2)沿所述分隔区(13)的长度方向布置，相邻所述挡帘(2)相互远离的两侧均设置有用于过滤空气的过滤组件(3)，所述过滤组件(3)包括沿所述分隔区(13)间隔布置的第一过滤网(33)以及第二过滤网(34)，所述洁净工作区(11)与所述加工服务区(12)内均设置有用于输送洁净空气的第一通风系统(4),所述分隔区(13)设置有用于输送洁净空气的第二通风系统(6)。

2.根据权利要求1所述的一种用于半导体厂房的洁净室，其特征在于：所述过滤组件(3)还包括间隔安装于所述分隔区(13)内的第一导向架(31)以及第二导向架(32),所述第一导向架(31)沿自身长度方向滑动设置有多个用于安装所述第一过滤网(33)的第一定位框(35),所述第二导向架(32)沿自身长度方向滑动设置有多个用于安装所述第二过滤网(34)的第二定位框(36),且所述第一过滤网(33)与所述第二过滤网(34)相邻的侧边重叠。

3.根据权利要求2所述的一种用于半导体厂房的洁净室，其特征在于：所述洁净工作室(1)的内顶面上安装有吊顶板(14)，所述洁净工作室(1)的内底面上设置有基座(15)，所述吊顶板(14)上开设有第一安装槽(16)，所述基座(15)上开设有用于与所述第一安装槽(16)相对应的第二安装槽(17)，所述第一导向架(31)包括安装于所述第一安装槽(16)内端面上的第一导向杆(311)以及安装于所述第二安装槽(17)内端面上的第二导向杆(312)，所述第二导向架(32)包括安装于所述第一安装槽(16)内端面上的第三导向杆(321)以及安装于所述第二安装槽(17)内端面上的第四导向杆(322)，所述第一导向杆(311)与所述第三导向杆(321)并排布置，所述第二导向杆(312)与所述第四导向杆(322)并排布置。

4.根据权利要求3所述的一种用于半导体厂房的洁净室，其特征在于：所述基座(15)内开设有收集空腔(64)，所述基座(15)位于所述分隔区(13)的上表面开设有多个用于与所述收集空腔(64)相连通的进气孔(65)，所述基座(15)内设置有用于排出所述收集空腔(64)内气体的排风机(67)，所述排风机(67)上设置有用于与所述收集空腔(64)相连通的负压风机(66)，所述负压风机(66)与所述排风机(67)之间安装有空气过滤器(68)。

5.根据权利要求3所述的一种用于半导体厂房的洁净室，其特征在于：所述洁净工作区(11)以及所述加工服务区(12)内均设置有多个用于分隔空间的分隔组件(5)，所述分隔组件(5)包括安装于所述基座(15)上的横向板(51)以及固定连接于所述横向板(51)上的纵向板(52)，所述横向板(51)与所述纵向板(52)的长度方向相互垂直。

6.根据权利要求5所述的一种用于半导体厂房的洁净室，其特征在于：所述第一通风系统(4)包括设置于所述吊顶板(14)内的排风箱(41)以及用于与高压气源相连通的通风管(42)，所述通风管(42)与所述排风箱(41)相连通，所述排风箱(41)内间隔安装有第一出风管(43)、第二出风管(44)，所述第一出风管(43)、第二出风管(44)上均安装有用于过滤空气的化学过滤器(45)，所述第一出风管(43)的内底面开设有用于朝向靠近所述分隔区(13)方向吹风的第一排风孔(46)，所述第二出风管(44)的内底面开设有用于朝向背离所述分隔区(13)方向吹风的第二排风孔(47)。

7.根据权利要求6所述的一种用于半导体厂房的洁净室，其特征在于：所述基座(15)位于所述洁净工作区(11)以及所述加工服务区(12)的部分上开设有换气空腔(19)，所述换气空腔(19)的内顶面上开设有换气孔(191)，且所述纵向板(52)内开设有用于与所述排风箱(41)相连通的贯穿通道(53)，且所述贯穿通道(53)与所述换气空腔(19)相连通。

8.根据权利要求7所述的一种用于半导体厂房的洁净室，其特征在于：所述通风管(42)上设置有多个用于连通所述排风箱(41)的连通管(48)，所述纵向板(52)位于所述排风箱(41)内的端部上固定连接有挡风板(54)，所述挡风板(54)与所述连通管(48)一一对应，所述纵向板(52)位于排风箱(41)内的端部两侧连通有出气管(55)，所述出气管(55)倾斜布置。