[发明专利]一种用于半导体厂房的洁净室

说明书

本申请公开了一种用于半导体厂房的洁净室，属于洁净室的技术领域，其包括洁净工作室,所述洁净工作室包括用于高精度加工的洁净工作区以及用于半导体前制程加工的加工服务区,所述洁净工作区与所述加工服务区之间设置有分隔区，所述分隔区内间隔设置有挡帘，所述挡帘沿所述分隔区的长度方向布置，相邻所述挡帘相互远离的两侧均设置有用于过滤空气的过滤组件，所述过滤组件包括沿所述分隔区间隔布置的第一过滤网以及第二过滤网，所述洁净工作区与所述加工服务区内均设置有用于输送洁净空气的第一通风系统,所述分隔区设置有用于输送洁净空气的第二通风系统。本申请具有提高洁净室内的空气洁净度的效果。

技术领域

本申请涉及洁净室的技术领域，尤其是涉及一种用于半导体厂房的洁净室。

背景技术

半导体指在常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，在消费电子、通信系统以及医疗仪器等领域具有广泛应用，操作人员通常在洁净室内生产制造半导体产品。洁净室可以有效控制室内或者厂房内的空气洁净度、温湿度以及气流走向等影响生产作业进程的因素，能够满足半导体工业对于作业环境的严格要求。

相关技术中,洁净室一般包括有大型洁净空间，大型洁净空间内设置有新风输送系统和排气系统，大型洁净空间由上至下包括有架构空间、洁净空间以及循环空间，且大型洁净空间内具有中央走道和至少一条生产走道。生产走道的四周围设有隔板，使得架构空间、洁净空间在生产走道处的部分构成独立的洁净微环境结构，且生产走道的天花板下设置有至少一个通风管，构成洁净微环境结构回风通道。

针对上述相关技术，发明人认为工作人员在移动半导体产品的过程中，需要多次从洁净室的工作区进入生产走道，工作区内少量的废气或者腐蚀性气体容易附着在工作人员的服饰表面，进而随着工作人员进入生产走道或者其他干净区域，进而存在影响洁净空间内空气的洁净度的可能性。

发明内容

为了提高洁净室内的空气洁净度，本申请提供一种用于半导体厂房的洁净室。

本申请提供的一种用于半导体厂房的洁净室采用如下的技术方案：

一种用于半导体厂房的洁净室，包括洁净工作室,所述洁净工作室包括用于高精度加工的洁净工作区以及用于半导体前制程加工的加工服务区,所述洁净工作区与所述加工服务区之间设置有分隔区，所述分隔区内间隔设置有挡帘，所述挡帘沿所述分隔区的长度方向布置，相邻所述挡帘相互远离的两侧均设置有用于过滤空气的过滤组件，所述过滤组件包括沿所述分隔区间隔布置的第一过滤网以及第二过滤网，所述洁净工作区与所述加工服务区内均设置有用于输送洁净空气的第一通风系统,所述分隔区设置有用于输送洁净空气的第二通风系统。

通过采用上述技术方案，挡帘的设置使得洁净工作区与加工服务区的空气不能相互流通,且挡帘与第一过滤网、第二过滤网配合形成分割区内的独立空间，当操作人员从洁净工作区或者加工服务区进入分隔区时，操作人员先通过过滤组件进入分隔区内的独立空间,此时,第一通风系统配合第二通风系统有利于清洁操作人员,从而防止废气或者腐蚀性气体随着操作人员移动带入分隔区,从而保证外部大型洁净空间内空气的洁净度。

优选的, 所述过滤组件还包括间隔安装于所述分隔区内的第一导向架以及第二导向架,所述第一导向架沿自身长度方向滑动设置有多个用于安装所述第一过滤网的第一定位框,所述第二导向架沿自身长度方向滑动设置有多个用于安装所述第二过滤网的第二定位框,且所述第一过滤网与所述第二过滤网相邻的侧边重叠。

通过采用上述技术方案，第一定位框以及第二定位框的设置方便操作人员更换第一过滤网以及第二过滤网，第一导向架以及第二导向架的设置使得操作人员能够分别移动第一定位框以及第二定位框，进而方便操作人员自由进入分隔区。