[发明专利]图像矫正方法及装置在审

专利信息
申请号: 202310390514.1 申请日: 2023-04-12
公开(公告)号: CN116416160A 公开(公告)日: 2023-07-11
发明(设计)人: 于皓;鄢昌莲;毛礼;张荣佳;甘远;韩春营 申请(专利权)人: 东方晶源微电子科技(上海)有限公司
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00
代理公司: 北京汇知杰知识产权代理有限公司 11587 代理人: 张婷婷;杨彦鸿
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 图像 矫正 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种图像矫正方法,其特征在于,包括:

将待测样片的设计版图与扫描电子显微镜SEM图像进行中心对齐;

基于所述设计版图及所述SEM图像中的图像单元,确定关键点对;

基于所述关键点对,对所述SEM图像进行矫正,得到矫正后的SEM图像;

基于所述设计版图及所述矫正后的SEM图像,确定畸变量;

在所述畸变量小于预设阈值的情况下,确定所述SEM图像矫正结束。

2.如权利要求1所述的图像矫正方法,其特征在于,在所述基于所述设计版图及所述矫正后的SEM图像,确定畸变量之后,还包括:

在所述畸变量大于或等于预设阈值的情况下,基于所述设计版图及所述矫正后的SEM图像,返回执行确定关键点对的步骤。

3.如权利要求1所述的图像矫正方法,其特征在于,所述基于所述设计版图及所述SEM图像中的图像单元,确定关键点对,包括:

在所述设计版图及SEM图像几何中心对齐的情况下,以所述几何中心为坐标原点O,建立直角坐标系O-XY;

在XY平面内,选取所述SEM图像中相对于所述设计版图偏移至少一个周期的图像单元为第一图像单元;

在所述设计版图上选取与所述第一图像单元对应位置的第二图像单元;

选取所述第一图像单元和所述第二图像单元中相同位置的其中一个坐标点为关键点对。

4.如权利要求3所述的图像矫正方法,其特征在于,所述在XY平面内,选取所述SEM图像中相对于所述设计版图偏移至少一个周期的图像单元为第一图像单元,包括:

在所述XY平面内的第一方向上,选取所述SEM图像中相对于所述设计版图偏移至少一个周期的图像单元为第一图像单元;

在所述XY平面内的第二方向上,选取所述SEM图像中相对于所述设计版图偏移至少一个周期的图像单元为第一图像单元。

5.如权利要求1所述的图像矫正方法,其特征在于,所述基于所述关键点对,对所述SEM图像进行矫正,得到矫正后的SEM图像,包括:

基于所述关键点对,确定矫正参数,其中,所述矫正参数包括以下至少一项:旋转参数、缩放参数及平移参数;

将所述SEM图像按照所述矫正参数进行处理,以确定矫正后的SEM图像。

6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述设计版图及所述矫正后的SEM图像,确定畸变量,包括:

确定所述矫正后的SEM图像中每个第一图像单元的第一一阶原点矩坐标及所述设计版图中每个第二图像单元的第二一阶原点矩坐标;

将所述矫正后的SEM图像及所述设计版图中对应的第一一阶原点矩坐标及第二一阶原点矩坐标进行处理,以确定畸变量。

7.如权利要求6所述的图像矫正方法,其特征在于,所述将所述矫正后的SEM图像及所述设计版图中对应的第一一阶原点矩坐标及第二一阶原点矩坐标进行处理,以确定畸变量,包括:

将所述矫正后的SEM图像及所述设计版图按照相同方式进行分割,以得到相对应的第一子图像及第二子图像;

将每个所述第一子图像中包含的第一图像单元的第一一阶原点矩坐标及每个所述第二子图像中包含的第二图像单元的第二一阶原点矩坐标分别进行均值处理,以确定每个所述第一子图像与对应第二子图像间的畸变量。

8.如权利要求1所述的图像矫正方法,其特征在于,所述确定所述SEM图像矫正结束,包括:

在得到多个畸变量的情况下,确定相邻两次畸变量之间的差值;

在任一差值为负数的情况下,确定所述SEM图像矫正结束。

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