[发明专利]图像矫正方法及装置

说明书

本发明提供一种图像矫正方法及装置，该方法包括：将待测样片的设计版图与扫描电子显微镜SEM图像进行中心对齐；基于设计版图及所述SEM图像中的图像单元，确定关键点对；基于关键点对，对SEM图像进行矫正，得到矫正后的SEM图像；基于设计版图及所述矫正后的SEM图像，确定畸变量；在畸变量小于预设阈值的情况下，确定SEM图像矫正结束。由此，可以基于设计版图及SEM图像中的图像单元，确定关键点对，再基于该关键点对对SEM图像进行矫正，由于该待测样片的SEM图像中的图像单元与设计版图中的图像单元可以尽量保持一致，从而可使得SEM图像的矫正更为准确可靠，从而提高了SEM图像矫正的准确性和可靠性。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种图像矫正方法及装置。

背景技术

随着集成电路的发展，电子束检测技术也在不断的进步，通常可以利用电子束检测和量测设备收集二次电子成像，由于在利用电子束检测和量测设备进行扫描过程中，电子枪容易受机械振动和表面电荷累积效应等因素的影响，从而使得得到的扫描电子显微镜(scanning electron microscope,SEM)图像中可能会存在部分失真的情况，因此需要对得到的SEM图像进行矫正。

相关技术中，在对SEM图像进行矫正时，通常需要先拍摄标准样片的SEM图像，依据SEM图像计算畸变量大小和放大倍率差异，之后再将结果应用在拍摄待测样片SEM图像矫正中，在很大程度上依赖标准样片的状态。由于SEM图像矫正工作是在非实际检测样片上完成，实际样片的材料和表面状态与标准样片间可能存在差异，从而可能导致实际样片上的畸变量与标准样片的畸变量可能不会完全一致，矫正效果较差，准确性较低。由此，如何提高SEM图像矫正的准确性，显得至关重要。

发明内容

针对现有技术中SEM图像矫正时，由于实际样片的材料和表面状态与标准样片间可能存在差异，导致实际待测样片上的畸变量与标准样片的畸变量可能不会完全一致，矫正效果较差，准确性较低的情形。

根据本发明的第一方面，提供一种图像矫正方法，该方法包括：将待测样片的设计版图与扫描电子显微镜SEM图像进行中心对齐；基于所述设计版图及所述SEM图像中的图像单元，确定关键点对；基于所述关键点对，对所述SEM图像进行矫正，得到矫正后的SEM图像；基于所述设计版图及所述矫正后的SEM图像，确定畸变量；在所述畸变量小于预设阈值的情况下，确定所述SEM图像矫正结束。

可选的，在所述基于所述设计版图及所述矫正后的SEM图像，确定畸变量之后，还包括：在所述畸变量大于或等于预设阈值的情况下，基于所述设计版图及所述矫正后的SEM图像，返回执行确定关键点对的步骤。

可选的，所述基于所述设计版图及所述SEM图像中的图像单元，确定关键点对，包括：在所述设计版图及SEM图像几何中心对齐的情况下，以所述几何中心为坐标原点O，建立直角坐标系O-XY；在XY平面内，选取所述SEM图像中相对于所述设计版图偏移至少一个周期的图像单元为第一图像单元；在所述设计版图上选取与所述第一图像单元对应位置的第二图像单元；选取所述第一图像单元和所述第二图像单元中相同位置的其中一个坐标点为关键点对。

可选的，所述在XY平面内，选取所述SEM图像中相对于所述设计版图偏移至少一个周期的图像单元为第一图像单元，包括：在所述XY平面内的第一方向上，选取所述SEM图像中相对于所述设计版图偏移至少一个周期的图像单元为第一图像单元；在所述XY平面内的第二方向上，选取所述SEM图像中相对于所述设计版图偏移至少一个周期的图像单元为第一图像单元。

可选的，所述基于所述关键点对，对所述SEM图像进行矫正，得到矫正后的SEM图像，包括：基于所述关键点对，确定矫正参数，其中，所述矫正参数包括以下至少一项：旋转参数、缩放参数及平移参数；将所述SEM图像按照所述矫正参数进行处理，以确定矫正后的SEM图像。