[发明专利]版图层次标记的方法在审
申请号: | 202310474833.0 | 申请日: | 2023-04-27 |
公开(公告)号: | CN116562217A | 公开(公告)日: | 2023-08-08 |
发明(设计)人: | 薛芳琦 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
主分类号: | G06F30/392 | 分类号: | G06F30/392;G06F30/398 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 刘昌荣 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 版图 层次 标记 方法 | ||
1.一种版图层次标记的方法,其特征在于,至少包括:
步骤一、提供具有多个层次的设计版图;
步骤二、对需做标记的所述层次进行设计规则检查运算,从而形成标记部分;
步骤三、利用所述标记部分形成标记层次版图;
步骤四、整合每个层次的所述设计版图及其对应的所述标记层次版图形成最终版图。
2.根据权利要求1所述的版图层次标记的方法,其特征在于:步骤一中的所述设计版图包括一维的线图形和二维的图形中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的版图层次标记的方法,其特征在于:步骤二中利用calibre语言对需做标记的所述层次进行设计规则检查运算,从而形成所述标记部分。
4.根据权利要求3所述的版图层次标记的方法,其特征在于:步骤二中所述标记部分包括每个需做标记的所述层次的数字标号以及数据类型。
5.根据权利要求3所述的版图层次标记的方法,其特征在于:步骤二中所述标记部分的文件类型为GDSII或OASIS。
6.根据权利要求1或3所述的版图层次标记的方法,其特征在于:步骤二中需要做标记的所述层次为所述设计版图的原始层次或是逻辑运算之后产生的衍生层次。
7.根据权利要求1所述的版图层次标记的方法,其特征在于:步骤三中利用calibre语言将所述标记部分形成所述标记层次版图。
8.根据权利要求1所述的版图层次标记的方法,其特征在于:步骤三中的所述标记层次版图中形成有与每个需做标记的所述层次对应的标记点。
9.根据权利要求8所述的版图层次标记的方法,其特征在于:步骤三中的所述标记点覆盖每个需做标记的所述层次中的图形。
10.根据权利要求9所述的版图层次标记的方法,其特征在于:步骤三中所述标记点的数量根据所述图形的形状以及关键尺寸设置为一个或多个。
11.根据权利要求1所述的版图层次标记的方法,其特征在于:步骤四中利用版图工具或者命令运行的方式整合每个层次的所述设计版图及其对应的所述标记层次版图形成所述最终版图。
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