[发明专利]石膏基自流平材料

权利要求书

1.一种石膏基自流平材料，其特征在于，包括如下重量份原料：

石膏60-80份、水泥4-6份、石膏减水剂2-4份、消泡剂0.001-0.005份、石膏缓凝剂0.002-0.004份、稳定剂0.002-0.005份、钙粉10-20份、改性己内酯共聚物5-8份。

2.根据权利要求1所述的一种石膏基自流平材料，其特征在于：所述石膏为β-半水石膏或由51.5-68.5份的β-半水石膏与8.5-11.5份的无水石膏组成。

3.根据权利要求2所述的一种石膏基自流平材料，其特征在于：所述石膏由β-半水石膏与无水石膏组成时，还包括0.001-0.005份的激发剂。

4.根据权利要求1所述的一种石膏基自流平材料，其特征在于：所述改性己内酯共聚物为经淀粉改性得到的改性淀粉己内酯共聚物。

5.根据权利要求1所述的一种石膏基自流平材料，其特征在于：所述改性己内酯共聚物由以下方法制备得到：

（1）将淀粉与适量正辛烷混匀后，加入钛酸四丁酯，加热到120-140℃搅拌反应，加入己内酯单体抽真空，反应4-5h，得到反应产物；

（2）待冷却后将上述反应产物取出，加入甲苯，室温下搅拌充分溶解后过滤，将未溶解的滤得物烘干后得到改性淀粉己内酯共聚物。

6.根据权利要求5所述的一种石膏基自流平材料，其特征在于：所述改性己内酯共聚物制备过程中淀粉与己内酯单体的重量份之比为（4-6）:1。

7.根据权利要求1所述的一种石膏基自流平材料，其特征在于：所述原料中还包括轻烧菱镁石粉5-6份。

8.根据权利要求1所述的一种石膏基自流平材料，其特征在于：所述原料中还包括4-8份的聚乙烯蜡乳液。