[发明专利]一种晶圆检测机台的量测数据校准方法、装置及设备有效
申请号: | 202310515625.0 | 申请日: | 2023-05-09 |
公开(公告)号: | CN116228773B | 公开(公告)日: | 2023-08-04 |
发明(设计)人: | 请求不公布姓名 | 申请(专利权)人: | 华芯程(杭州)科技有限公司 |
主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 刘乐 |
地址: | 311113 浙江省杭州市余杭区良渚街*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 检测 机台 数据 校准 方法 装置 设备 | ||
本发明涉及晶圆检测领域,特别是涉及一种晶圆检测机台的量测数据校准方法、装置、设备及计算机可读存储介质,通过获取基准图形及所述基准图像对应的可靠边缘图案;利用待校机台对所述基准图形进行扫描,得到量测边缘图案;将所述可靠边缘图案及所述量测边缘图案置于同一坐标系下,且所述可靠边缘图案的中心与所述量测边缘图案的中心重合;以重合的中心为原点,计算所述可靠边缘图案及所述量测边缘图案在多个预设方向上的边缘距离差;根据所述预设方向及对应的边缘距离差,对所述待校机台进行校准。本发明为所述待校机台在不同方向上产生的误差方向及误差大小有了一个定量的参考,帮助所述待校机台进行校准,兼顾快速检测与较高的检测准确率。
技术领域
本发明涉及晶圆检测领域,特别是涉及一种晶圆检测机台的量测数据校准方法、装置、设备及计算机可读存储介质。
背景技术
目前的晶圆检测中,不同的检测方式有不同的优势,如CD-SEM(关键尺寸扫描电子显微镜)量测准确率高,精度高,但是量测速度较慢,且只能量测有限的图形;反之如果采用电子束扫描的方式进行晶圆检测,则量测效率非常高,可以在有限的时间内扫描大量的图片,但是电子束扫描得到的图形图像的量测值通常与实际情况有较大误差,准确率较差。
因此,如何在保障晶圆检测的过程中较快的量测速度,较高的量测效率的同时,兼顾量测的准确性,是本领域技术人员亟待解决的问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种晶圆检测机台的量测数据校准方法、装置、设备及计算机可读存储介质,以解决现有技术中晶圆检测高检测效率与高检测准确率无法兼顾的问题。
为解决上述技术问题,本发明提供一种晶圆检测机台的量测数据校准方法,包括:
获取基准图形及所述基准图像对应的可靠边缘图案;
利用待校机台对所述基准图形进行扫描,得到量测边缘图案;
将所述可靠边缘图案及所述量测边缘图案置于同一坐标系下,且所述可靠边缘图案的中心与所述量测边缘图案的中心重合;
以重合的中心为原点,计算所述可靠边缘图案及所述量测边缘图案在多个预设方向上的边缘距离差;
根据所述预设方向及对应的边缘距离差,对所述待校机台进行校准。
可选地,在所述的晶圆检测机台的量测数据校准方法中,所述根据所述预设方向及对应的边缘距离差,对所述待校机台进行校准包括:
确定所述量测边缘图案在各个所述预设方向上的方向截距;
根据所述方向截距及所述边缘距离差,确定各个预设方向对应的校正比,所述校正比为所述边缘距离差与对应的方向截距的比值;
根据所述预设方向及对应的校正比,对所述待校机台进行校准。
可选地,在所述的晶圆检测机台的量测数据校准方法中,所述利用待校机台对所述基准图形进行扫描,得到量测边缘图案包括:
利用待校机台对所述基准图形进行扫描,得到扫描图像;
利用梯度下降法,对所述扫描图像进行边缘提取,得到量测边缘图案。
可选地,在所述的晶圆检测机台的量测数据校准方法中,所述获取基准图形及所述基准图像对应的可靠边缘图案包括:
接收基准图形;
利用可靠机台对所述基准图形进行扫描,得到附加坐标系的可靠边缘图案;
相应地,所述利用待校机台对所述基准图形进行扫描,得到量测边缘图案包括:
利用待校机台对所述基准图形进行扫描,得到附加坐标系的量测边缘图案;
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