[发明专利]光罩、阵列基板及其制作方法、显示面板及电子设备

权利要求书

1.一种光罩，其特征在于，包括基体和设置于所述基体上的图案层，所述基体为凸透镜。

2.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述图案层包括不透光层和设置于所述不透光层上的透光孔，所述凸透镜暴露于所述透光孔。

3.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述基体为石英玻璃基体，所述图案层为铬层。

4.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，所述阵列基板的制作方法采用了权利要求1～3中任一项所述的光罩，所述阵列基板的制作方法包括以下步骤：

在基板上设置负光阻层；

控制光线透过所述光罩对所述负光阻层进行曝光；

采用显影液对曝光后的所述负光阻层进行显影，以去除所述负光阻层中未曝光部分；

对所述基板未覆盖所述负光阻层的位置进行蚀刻；

去除剩余的经过爆光的所述负光阻层。

5.根据权利要求4所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述去除剩余的经过爆光的负光阻层的步骤之后，还包括步骤：

对去除负光阻层后的基板进行清洗。

6.根据权利要求4所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述采用显影液对曝光后的所述负光阻层进行显影的步骤包括：

采用碱性显影液对曝光后的所述负光阻层进行显影。

7.根据权利要求4所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述对所述基板未覆盖所述负光阻层的位置进行蚀刻的步骤包括：

对所述基板未覆盖负所述光阻层的位置进行干法蚀刻或湿法蚀刻。

8.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板由权利要求4～7中任一阵列基板的制作方法制成。

9.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括彩膜基板和权利要求8所述的阵列基板，所述阵列基板和所述彩膜基板面向设置。

10.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括权利要求8所述的阵列基板，或：包括权利要求9所述的显示面板。