[发明专利]自适应调整抛光头以及抛光装置在审

专利信息
申请号: 202310614753.0 申请日: 2023-05-29
公开(公告)号: CN116394093A 公开(公告)日: 2023-07-07
发明(设计)人: 万先进;胡孟杰;李俊;尤国振;张怀东;朱松;边逸军 申请(专利权)人: 宁波芯丰精密科技有限公司
主分类号: B24B7/22 分类号: B24B7/22;B24B29/02;B24B41/047;B24B55/00
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 袁微微
地址: 315400 浙江省宁*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 自适应 调整 抛光 以及 装置
【说明书】:

本发明属于半导体加工技术领域,公开了一种自适应调整抛光头,用于弥补抛光垫安装偏差,自适应调整抛光头包括第一固定块,第一固定块设置有沿着轴向贯穿的阶梯腔,阶梯腔包括大径段和小径段;在大径段内滑动有第二固定块,第二固定块背离小径段的一侧具有抵接凸块,而大径段的开口处设置有与第一固定块连接的第三固定块,第三固定块面向大径段的一侧设置有与抵接凸块的端面配合的抵接槽,抵接凸块能够抵接在抵接槽内自由偏转;第三固定块背离抵接槽一侧连接有抛光垫座。抛光装置采用上述自适应调整抛光头从而在进行抛光时,当抛光垫安装在抛光垫座时出现偏差后,由于抛光垫的受力不均则会使抵接凸块与抵接槽出现相对偏斜,从而弥补安装偏差。

技术领域

本发明涉及半导体加工技术领域,尤其涉及一种自适应调整抛光头以及抛光装置。

背景技术

在晶圆减薄机磨削减薄后,通常会使晶圆表面产生磨轮痕迹,从而产生晶圆表面不平整、外观不美观和移载工具吸附不起来等不良因素,需要有抛光垫将晶圆表面处理下,使其表面平整;抛光垫在对晶圆表面抛光时,需保证抛光出来的面也是平整的,否则会出现晶圆局部地方抛光垫接触不到,抛光效果适得其反,甚至因为倾斜角度过大,导致超出抛光垫弹性范围,对晶圆表面造成不可逆的伤害;但是由于抛光垫是通过人工安装在固定块上的,人工无法保证准确精度,所以内部亟需有能自主调整抛光垫角度,使抛光垫在接触晶圆表面时,自主调整使抛光垫与晶圆表面持平,这样全部的抛光垫才能与晶圆接触更加紧密;现有技术中采用传动膜传动结构,如专利文献CN113183031A公开所示,利用传动膜具有可变形的特性进行调节,但是采用传动膜传动结构接触面积大,传动磨易损坏造成卡顿。

发明内容

本发明的目的在于提供一种自适应调整抛光头以及抛光装置,使抵接凸块与抵接槽出现相对偏斜代替传动膜传动,从而弥补安装偏差,使整个抛光垫与晶圆表面完全贴合。

为达此目的,本发明采用以下技术方案:

自适应调整抛光头,用于弥补安装于抛光垫座上的抛光垫的安装偏差,包括:

第一固定块;所述第一固定块设置有沿着轴向贯穿的阶梯腔,所述阶梯腔包括同轴设置的大径段和小径段;

第二固定块,所述第二固定块滑接在所述大径段内,所述第二固定块的尺寸小于所述大径段的尺寸,所述第二固定块背离所述小径段的一侧具有抵接凸块;

第三固定块,所述第三固定块与所述第一固定块连接以封堵所述大径段的开口,所述第三固定块面向所述大径段的一侧设置有与所述抵接凸块的端面配合的抵接槽,所述抵接凸块能够抵接在所述抵接槽内自由偏转;所述第三固定块背离所述抵接槽的一侧连接有所述抛光垫座。

作为优选,所述抵接凸块的端面为球弧面,所述抵接槽为圆锥形槽。

作为优选,所述第二固定块背离抵接凸块的一侧设置有沿轴向的第一进液孔以连接外部供液装置,所述第二固定块的侧部还设置有与所述第一进液孔连通的第一导液孔;所述抛光垫座的端面还设置有若干分液孔,所述第一导液孔连接有贯穿所述第一固定块的第一导管接头的一端,所述第一导管接头的另一端连接所述分液孔。

作为优选,所述抛光垫座上设置有第二进液孔,所述第二进液孔连接所述第一导管接头,所述抛光垫座内设置有分液通道,所述第二进液孔和若干所述分液孔通过所述分液通道连通,所述第二进液孔与若干所述分液孔设置在所述抛光垫座的相对面。

作为优选,所述第三固定块的侧部设置有第二导液孔,所述第二导液孔插接有第二导管接头,所述第一导管接头与所述第二导管接头连通,所述第三固定块背离所述抵接槽的端面设置有出液孔,所述出液孔的一端与所述第二导液孔连通,所述出液孔的另一端连通所述第二进液孔。

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