[发明专利]显示基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，包括：依次层叠设置的第一衬底，第一导电层，第二衬底，无机绝缘层和第二导电层；所述显示基板还包括：

过孔结构，所述过孔结构贯穿所述无机绝缘层和所述第二衬底，所述第二导电层通过所述过孔结构与所述第一导电层耦接；

填充层，所述填充层覆盖所述过孔结构的内壁，所述填充层位于所述过孔结构的内壁与所述第二导电层之间。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述过孔结构包括第一过孔和第二过孔，所述第二过孔位于所述第一过孔与所述第一衬底之间，所述第一过孔贯穿所述无机绝缘层中的第一子膜层，所述第二过孔贯穿所述无机绝缘层中的第二子膜层和所述第二衬底；

所述第二子膜层在所述第二过孔远离所述第一衬底的边缘处形成凸台，所述填充层覆盖所述凸台，补偿所述凸台在所述过孔结构内壁形成的段差。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述无机绝缘层包括沿远离所述第一衬底的方向依次层叠设置的阻隔层、缓冲层、栅极绝缘层和层间绝缘层；所述第一子膜层包括所述缓冲层、所述栅极绝缘层和所述层间绝缘层中的至少一层，所述第二子膜层包括除所述第一子膜层包括的膜层之外的剩余膜层；

所述显示基板还包括晶体管结构，所述晶体管结构的源漏电极通过第三过孔与所述晶体管结构的有源层耦接；所述第二导电层与所述源漏电极同层同材料设置。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二导电层包括正电源信号线、负电源信号线和数据线中的至少一种。

5.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～4中任一项所述的显示基板。

6.一种显示基板的制作方法，其特征在于，用于制作如权利要求1～4中任一项所述的显示基板，所述制作方法包括：

制作依次层叠设置的第一衬底，第一导电层，第二衬底和无机绝缘层；

制作过孔结构，所述过孔结构贯穿所述无机绝缘层和所述第二衬底；

制作填充层，所述填充层覆盖所述过孔结构的内壁；

制作第二导电层，所述第二导电层通过所述过孔结构与第一导电层耦接，所述填充层位于所述过孔结构的内壁与所述第二导电层之间。

7.根据权利要求6所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述无机绝缘层包括第一子膜层和第二子膜层；制作所述过孔结构的步骤具体包括：

制作第一过孔，所述第一过孔贯穿所述第一子膜层；

制作第二过孔，所述第二过孔贯穿所述第二子膜层和所述第二衬底，所述第二子膜层在所述第二过孔远离所述第一衬底的边缘处形成凸台。

8.根据权利要求7所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述显示基板还包括晶体管结构，所述晶体管结构的源漏电极通过第三过孔与所述晶体管结构的有源层耦接；

所述制作第一过孔的步骤具体包括：在一次构图工艺中同时形成所述第一过孔和所述第三过孔；

所述制作第二导电层的步骤具体包括：在一次构图工艺中同时形成所述第二导电层和所述源漏电极。

9.根据权利要求7所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述制作填充层的步骤具体包括：

利用有机材料形成填充膜层；

利用半色调掩膜版对所述填充膜层进行曝光，形成填充膜层完全保留区域，填充膜层半保留区域和填充膜层完全去除区域，所述填充膜层完全保留区域和所述填充膜层半保留区域与所述填充层所在区域相对应，所述填充膜层完全去除区域与除所述填充层所在区域之外的其他区域相对应；

利用显影液将位于所述填充膜层半保留区域的填充膜层部分去除，将位于所述填充膜层完全去除区域的填充膜层完全去除，形成所述填充层，所述填充层覆盖所述凸台，补偿所述凸台在所述过孔结构内壁形成的段差。

10.根据权利要求7所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述制作填充层的步骤具体包括：

利用有机材料形成填充膜层；

利用全色调掩膜版对所述填充膜层进行曝光，形成填充膜层完全保留区域和填充膜层完全去除区域，所述填充膜层完全保留区域与所述填充层所在区域相对应，所述填充膜层完全去除区域与除所述填充层所在区域之外的其他区域相对应；

利用显影液将位于所述填充膜层完全去除区域的填充膜层完全去除，形成所述填充层，所述填充层覆盖所述凸台，补偿所述凸台在所述过孔结构内壁形成的段差。