[实用新型]一种研磨设备的气体静压回转平台

权利要求书

1.一种研磨设备的气体静压回转平台，其特征在于，包括：

回转平台主体(1)，所述回转平台主体(1)的底端设有对回转平台主体(1)保持水平转动的支撑底座(2)，所述回转平台主体(1)底端轴心通过主轴(3)连接有转动组件，所述转动组件设于支撑底座(2)内部；

转动组件包括设于主轴(3)末端的制动轴杆(4)、通过传动皮带(5)与制动轴杆(4)连接的驱动电机(6)、与主轴(3)上的环形齿轮(7)啮合传动的气压回转组件，所述驱动电机(6)固定在支撑底座(2)内；

气压回转组件包括与环形齿轮(7)啮合传动的直齿板(8)、设于直齿板(8)末端的阻尼杆(9)、与阻尼杆(9)末端套接并与阻尼杆(9)配合产生阻尼作用力的阻尼筒(10)，所述阻尼筒(10)的末端固定在支撑底座(2)内壁上。

2.根据权利要求1所述的一种研磨设备的气体静压回转平台，其特征在于：所述支撑底座(2)的底端设有与研磨设备配合装配的安装底板(11)。

3.根据权利要求1所述的一种研磨设备的气体静压回转平台，其特征在于：所述回转平台主体(1)底端的导向滚珠设于支撑底座(2)上顶面的环形导向槽(12)内，通过导向滚珠限位在环形导向槽(12)内对回转平台主体(1)配合转动。

4.根据权利要求1所述的一种研磨设备的气体静压回转平台，其特征在于：所述直齿板(8)的左端设有对直齿板(8)与环形齿轮(7)限位的弧形限位板(13)，且弧形限位板(13)的内侧面设有与环形齿轮(7)缓冲接触的半轴承(14)。

5.根据权利要求1所述的一种研磨设备的气体静压回转平台，其特征在于：所述直齿板(8)的上部和下部设有分别限位在环形齿轮(7)上部和下部的限位板(15)。

6.根据权利要求5所述的一种研磨设备的气体静压回转平台，其特征在于：所述限位板(15)内侧面设有配合直齿板(8)移动的滚珠(16)，所述滚珠(16)的顶面与环形齿轮(7)的上表面和底面贴合滚动。