[实用新型]一种铝碳化硅镶嵌式基板有效

专利信息
申请号: 202320103876.3 申请日: 2023-02-03
公开(公告)号: CN219227939U 公开(公告)日: 2023-06-20
发明(设计)人: 周友军;陶天宇;刘莹;吴道勋;黄尔书;江树昌;林逢佺 申请(专利权)人: 中民(福建)电子制造有限公司
主分类号: H05K1/02 分类号: H05K1/02
代理公司: 福州市鼓楼区年盛知识产权代理事务所(普通合伙) 35254 代理人: 谢名海
地址: 352100 福建省宁德市东侨*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 碳化硅 镶嵌 式基板
【说明书】:

本实用新型公开了一种铝碳化硅镶嵌式基板,涉及种铝碳化硅基板技术领域,其包括:铝碳化硅基板,所述铝碳化硅基板的上方设置有氧化铝陶瓷,所述氧化铝陶瓷的上方设置有铝层,所述铝层的上方设置有铜层,所述铜层的上表面设置有散热槽,所述铝碳化硅基板的下表面固定连接有嵌入块,所述铝碳化硅基板下表面的中部设置有容纳槽,所述容纳槽的内部设置有加强片。通过设置的嵌入块,可以提高嵌入的牢固度,而且整体式的嵌入块,可以承受更大的压力,使用时不容易损坏;设置的加强片,可以提高整体的强度,提高整体的使用寿命;设置的散热槽,可以增大与空气的接触面积,散热的效果良好。

技术领域

本实用新型涉及种铝碳化硅基板技术领域,特别涉及一种铝碳化硅镶嵌式基板。

背景技术

铝碳化硅基板是使用电子元器件常用的基板,如申请号为:“201720363436.6”的中国专利,其名称为:“一种铝碳化硅镶嵌式基板”,所述基板从下至上依次包括铝碳化硅基板和覆铜层,所述铝碳化硅基板的上端面为平面,所述上端面浸渗有氧化铝/氮化铝陶瓷,所述氧化铝/氮化铝陶瓷上设置有铝层,所述铝层的厚度为10~20微米,所述覆铜层的厚度为10~1000微米。该实用新型铝碳化硅镶嵌式基板,在碳化硅陶瓷上先镶嵌氮化铝,然后通过铸造工艺使碳化硅和氮化铝形成镶嵌式基板,然后通过加工处理使氮化铝基板表面达到一定平整度,通过表面处理在铝碳化硅基板上覆铜,厚度10~1000微米,通过铸造一次成型制备碳化硅和氮化铝镶嵌式基板,结合强度高,表面易加工,解决铝碳化硅可焊性差的问题,减少焊接工序,降低生产成本。

但是,其嵌入方式不够稳定,整体的强度不够理想,使用起来不够耐用。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足,本实用新型的目的之一在于提供一种铝碳化硅镶嵌式基板,通过设置的嵌入块,可以提高嵌入的牢固度,而且整体式的嵌入块,可以承受更大的压力,使用时不容易损坏;设置的加强片,可以提高整体的强度,提高整体的使用寿命;设置的散热槽,可以增大与空气的接触面积,散热的效果良好。

本实用新型的目的之一采用如下技术方案实现:一种铝碳化硅镶嵌式基板,包括铝碳化硅基板,所述铝碳化硅基板的上方设置有氧化铝陶瓷,所述氧化铝陶瓷的上方设置有铝层,所述铝层的上方设置有铜层,所述铜层的上表面设置有散热槽,所述铝碳化硅基板的下表面固定连接有嵌入块,所述铝碳化硅基板下表面的中部设置有容纳槽,所述容纳槽的内部设置有加强片。通过设置的嵌入块,可以提高嵌入的牢固度,而且整体式的嵌入块,可以承受更大的压力,使用时不容易损坏;设置的加强片,可以提高整体的强度,提高整体的使用寿命;设置的散热槽,可以增大与空气的接触面积,散热的效果良好。

根据所述的一种铝碳化硅镶嵌式基板,所述嵌入块的形状为三角形。可以提高嵌入的牢固度,而且整体式的嵌入块,可以承受更大的压力,使用时不容易损坏。

根据所述的一种铝碳化硅镶嵌式基板,所述嵌入块的数量有四个,且为轴对称设置。提高嵌入的牢固程度。

提供所述的一种铝碳化硅镶嵌式基板,所述加强片的形状为十字形。

根据所述的一种铝碳化硅镶嵌式基板,所述散热槽剖面的形状为圆弧形。

根据所述的一种铝碳化硅镶嵌式基板,所述散热槽的数量有两个,且为对称设置。可以增大与空气的接触面积,散热的效果良好。

根据所述的一种铝碳化硅镶嵌式基板,所述散热槽的长度与铜层的长度相同。

根据所述的一种铝碳化硅镶嵌式基板,所述加强片的厚度为0.2㎜。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步地说明;

图1为本实用新型一种铝碳化硅镶嵌式基板的结构示意图;

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