[实用新型]一种清洗结构及光罩清洗机

权利要求书

1.一种清洗结构，其特征在于，包括机台、设置在所述机台上的液源组件、管路和控制器，以及设置在所述管路上的脏污感应器，所述液源组件用于存放和输送清洗液，所述管路的入口端与所述液源组件连接，出口端用于向待清洗产品喷洒所述清洗液，所述脏污感应器与所述控制器电连接，所述脏污感应器用于检测所述管路内的脏污并向所述控制器发出警示信号。

2.根据权利要求1所述的清洗结构，其特征在于，所述脏污感应器与所述管路的出口端之间的距离小于或等于所述管路总长度的10％。

3.根据权利要求1所述的清洗结构，其特征在于，所述脏污感应器设置在所述管路的出口端。

4.根据权利要求1所述的清洗结构，其特征在于，所述管路的出口端设有与所述控制器电连接的阀门，所述阀门能够在所述控制器的控制下将所述管路关闭。

5.根据权利要求1所述的清洗结构，其特征在于，所述管路和所述脏污感应器均包括多个，所述脏污感应器与所述管路一一对应设置。

6.根据权利要求1所述的清洗结构，其特征在于，所述脏污感应器设置在所述管路的内部。

7.根据权利要求6所述的清洗结构，其特征在于，所述脏污感应器为粒子探测器，所述粒子探测器包括保护层，所述保护层用于防止所述粒子探测器被所述管路内的化学药品腐蚀。

8.根据权利要求1所述的清洗结构，其特征在于，所述脏污感应器设置在所述管路的外壁上。

9.根据权利要求8所述的清洗结构，其特征在于，所述脏污感应器为重力传感器或光电传感器。

10.一种光罩清洗机，其特征在于，包括如权利要求1至9中任意一项所述的清洗结构。