[实用新型]一种PVD真空镀膜用真空腔检测机有效
申请号: | 202320276496.X | 申请日: | 2023-02-22 |
公开(公告)号: | CN219142166U | 公开(公告)日: | 2023-06-06 |
发明(设计)人: | 唐海明;向炜 | 申请(专利权)人: | 厦门世鑫达工贸有限公司 |
主分类号: | G01M3/34 | 分类号: | G01M3/34;C23C14/56;C23C14/52 |
代理公司: | 广州辉久专利代理事务所(普通合伙) 44951 | 代理人: | 谢燕钿 |
地址: | 361000 福建省厦门*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 pvd 真空镀膜 空腔 检测 | ||
本实用新型涉及一种检测机,尤其涉及一种PVD真空镀膜用真空腔检测机。本实用新型提供一种具有过滤装置的PVD真空镀膜用真空腔检测机,包括有机体、电离真空计、进气管、滤框、出气管、滤架和挡板,机体前方设有电离真空计,机体与电离真空计之间设置有滤框,滤框上方连接有进气管,进气管另一端与机体连接,滤框下方连接有出气管,出气管的另一端连接有电离真空计,滤框内部设置有滤架,滤框一侧活动式连接有挡板。通过设置滤架可以过滤气体的细微杂质,将细微杂质吸附在滤架上,保证进入电离真空计电离的气体清洁性,使电离真空计的示数准确性高,达到了可以准确测出数值并且检测密封性的效果。
技术领域
本实用新型涉及一种检测机,尤其涉及一种PVD真空镀膜用真空腔检测机。
背景技术
PVD即物理气相沉积,是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术;其工作原理就是在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上;它具有沉积速度快和表面清洁的特点,特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。
在真空镀膜过程中,如果真空腔室的密封性能如果无法保证,则会直接影响PVD涂层的性能,所以需要用电离真空计时刻监控真空腔室内当密封性,但真空镀膜过程中会产生微小杂质,微小杂质进入电离真空计会影响实验数值,使其不能准确判断真空腔室的密封性。
因此亟需设计一种具有过滤装置的PVD真空镀膜用真空腔检测机。
实用新型内容
为了克服真空镀膜过程中会产生微小杂质,微小杂质进入电离真空计会影响实验数值,使其不能准确判断真空腔室的密封性的缺点,提供一种具有过滤装置的PVD真空镀膜用真空腔检测机。
一种PVD真空镀膜用真空腔检测机,包括有机体、电离真空计、进气管、滤框、出气管、滤架和挡板,机体前方设有电离真空计,机体与电离真空计之间设置有滤框,滤框上方连接有进气管,进气管另一端与机体连接,滤框下方连接有出气管,出气管的另一端连接有电离真空计,滤框内部设置有滤架,滤框一侧活动式连接有挡板。
进一步的是,还包括有固定板、弹簧、顶板和密封垫,挡板内侧设有密封垫,密封垫上方对称式镶嵌有顶板,滤架上方一侧固定有固定板,固定板与顶板之间连接有弹簧。
进一步的是,还包括有蓄液框、单向进料管、单向出料管和气囊,进气管一侧设置有蓄液框,蓄液框下方连接有单向出料管,单向出料管的另一端与机体连接,蓄液框上方连接有单向进料管,单向进料管位于气囊一侧。
进一步的是,还包括有雾化器,单向出料管末端安装有雾化器。
进一步的是,还包括有密封圈,进气管与滤框连接处设置有密封圈。
本实用新型具有如下优点:
通过设置滤架,滤架过滤气体的细微杂质,将细微杂质吸附在滤架上,保证进入电离真空计电离的气体是清洁的,使电离真空计的示数准确性高,达到了可以准确测出数值并且检测密封性的效果。
通过设置固定板、弹簧和顶板,用力按压挡板,弹簧复位,推动顶板向外,顶板向外推动密封垫,从而脱离密封垫,将挡板自动推开,可以简单的将挡板打开进行更换滤架。
通过设置雾化器,雾化器可以将液体的乙醇雾化,使得更乙醇分子更好的运动分布在机体内的各个角落,观察电离真空计的示数是否发生变化来判断该装置的密封性,达到简单快捷的测出装置密封性的效果。
附图说明
图1为本实用新型的立体结构示意图。
图2为本实用新型的第一种部分立体结构示意图。
图3为本实用新型的第二种部分立体结构示意图。
图4为本实用新型的第三种部分立体结构示意图。
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