[实用新型]一种晶片定向解理设备有效

专利信息
申请号: 202320294351.2 申请日: 2023-02-23
公开(公告)号: CN219294406U 公开(公告)日: 2023-07-04
发明(设计)人: 刘砚滨;于会永;冯佳峰;赵春锋 申请(专利权)人: 大庆溢泰半导体材料有限公司
主分类号: B28D5/04 分类号: B28D5/04;B28D7/02;B28D7/00
代理公司: 黑龙江省百盾知识产权代理事务所(普通合伙) 23218 代理人: 孙淑荣
地址: 163000 黑龙江省大庆市高新区新泰路3号、黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要:
搜索关键词: 一种 晶片 定向 解理 设备
【说明书】:

一种晶片定向解理设备,涉及半导体晶片加工设备技术领域,结构包括支架、往复转动轮组A、粗切割线、X轴轨道、滑套、往复转动轮组B和细切割线;往复转动轮组A安装在支架上且沿着Y轴方向滑动,每条粗切割线等间距的分布在往复转动轮组A上,往复转动轮组A向下移动,粗切割线将晶棒在晶棒轴向的垂向均匀切出豁口;X轴轨道安装在支架上且可沿着Y轴方向滑动,滑套滑动套装在X轴轨道上,往复转动轮组B安装在滑套的上方,细切割线分别缠绕在相对的两个转动轮B上;在粗线将晶棒割出豁口以后,细切割线向下到达豁口的最底部后,对晶棒开始实施X轴方向的分段切割,利用较短的时间切完主定位边。

技术领域

本实用新型属于半导体晶片加工设备技术领域,尤其涉及一种晶片定向解理设备。

背景技术

晶体定向是由X射线衍射或者平行光衍射来确定的,晶体的一端被腐蚀或抛光来去除损伤层,再将晶体安放到衍射仪上,X射线或平行光反射晶体表面到成像板上,从而可以看到晶体的晶向。晶棒黏放在一个切割块上来保证晶圆从晶体正确的晶向切割。

一旦晶体在切割块上定好晶向,就沿着轴滚磨出一个参考面,这个参考面将会在每个晶圆上出现,称之为主参考面。简单来说,主参考面用来告诉用片人它是什么导电类型和晶向,是个身份标识。

现有技术的主参考面都是磨出来的,磨的过程耗时长,且主边废料变成粉末不能回收。

实用新型内容

为了解决磨削主边耗时长以及磨掉的废料不能回收的问题,本实用新型提供一种切割式晶片定向解理设备,本实用新型通过切割的方式获得主参考面,大幅缩短了加工时长,切掉的废料为块状,能够回收。

本实用新型提供的技术方案是:一种晶片定向解理设备,结构包括支架、往复转动轮组A、粗切割线、X轴轨道、滑套、往复转动轮组B和细切割线;

往复转动轮组A的两端安装在支架上且可在支架上沿着Y轴方向滑动,往复转动轮组A包括一对转动轮A,转动轮A的轮轴位于X轴方向,每条粗切割线等间距的分布在两个转动轮A上,粗切割线在两个转动轮A的作用下沿Z轴方向做往复运动;往复转动轮组A向下移动,粗切割线将晶棒在晶棒轴向的垂向均匀切出豁口,豁口深度近似为参考面深度;将粗切割线之间的中心距命为L1;

所述的X轴轨道的两端安装在支架上且可在支架上沿着Y轴方向滑动,所述的滑套滑动套装在X轴轨道上,滑套不可相对X轴轨道转动,所述的往复转动轮组B中的转动轮B等间距的安装在滑套的上方,转动轮B的轮轴位于Y轴方向,所述的细切割线分别缠绕在相对的两个转动轮B上,并在两个转动轮B的作用下沿Z轴做往复运动;在粗线将晶棒割出豁口以后,细切割线向下到达豁口的最底部后,对晶棒开始实施X轴方向的分段切割,利用较短的时间切出主定位边;将细切割线之间的中心距命为L2,使L1=L2;

作为进一步的技术方案是:所述的转动轮A和X轴轨道的两端分别带有滑块,分别称为滑块A和滑块B,转动轮A与滑块A转动配合,X轴轨道与滑块B固定配合,所述的支架两端带有Y轴方向的两组滑轨,其中一组滑轨用于安装滑块A,另一组滑轨用于安装滑块B。

作为进一步的技术方案是:所述的粗切割线、细切割线均为金刚石砂线。

发明提供的技术方案,具有如下优点:

1.本实用新型能够通过粗切割线在Y轴方向割出豁口,通过细切割线伸入到豁口最底部在X轴方向继续切割的方式切出主定位边,设置多条切割线的目的有两个,其一,能够分段切割,提升切割效率,缩短用时;其二,避免一条切割线切到底磨损过重,影响切割出的效果。

2.通过本实用新型切割后的主边废料是块状,可以回收。

附图说明

图1是本实用新型的俯视图。

图2是本实用新型的左视图。

图3是本实用新型中滑块以及转动轮B的相对位置示意图。

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