[实用新型]硅片镀膜装置及电池片生产系统

权利要求书

1.一种硅片镀膜装置，其特征在于，包括：

镀膜机构(100)，所述镀膜机构(100)设有镀膜腔(110)；

输送机构(200)，所述输送机构(200)用于将载具(1000)输送至镀膜腔(110)内进行镀膜后输出，所述输送机构(200)具有处于所述镀膜腔(110)后方的下料位置(210)；

载具处理机构(300)，所述载具处理机构(300)位于所述下料位置(210)远离所述镀膜腔(110)的一侧，所述载具处理机构(300)设有处理腔(310)以对所述载具(1000)进行清理并对所述载具(1000)进行非晶硅膜层的沉积；

下料机构(400)，所述下料机构(400)位于所述输送机构(200)与所述载具处理机构(300)之间，所述下料机构(400)用于将所述下料位置(210)处的载具(1000)转运至所述处理腔(310)内。

2.根据权利要求1所述的硅片镀膜装置，其特征在于，所述硅片镀膜装置还包括存储机构(500)，所述存储机构(500)设有存储腔(510)，通过所述下料机构(400)将所述处理腔(310)内的所述载具(1000)转运至所述存储腔(510)内。

3.根据权利要求2所述的硅片镀膜装置，其特征在于，所述硅片镀膜装置还包括抽真空机构，所述抽真空机构用于对所述存储腔(510)进行抽真空处理。

4.根据权利要求2所述的硅片镀膜装置，其特征在于，所述下料机构(400)设置为升降平台(410)，所述处理腔(310)及所述存储腔(510)沿所述升降平台(410)的升降方向排布，且所述存储腔(510)设置于所述处理腔(310)的下方。

5.根据权利要求4所述的硅片镀膜装置，其特征在于，所述硅片镀膜装置还包括第一输送件(600)，所述第一输送件(600)设置于所述升降平台(410)与所述存储腔(510)之间以使得所述载具(1000)在所述升降平台(410)与所述存储腔(510)之间进行转运。

6.根据权利要求4所述的硅片镀膜装置，其特征在于，所述硅片镀膜装置还包括第二输送件，所述第二输送件设置于所述升降平台(410)与所述处理腔(310)之间以使得所述载具(1000)在所述升降平台(410)与所述处理腔(310)之间进行转运。

7.根据权利要求1至6任一项所述的硅片镀膜装置，其特征在于，所述镀膜机构(100)设有第一电离组件及与所述镀膜腔(110)连通的第一注气通道，所述第一电离组件设置于所述镀膜腔(110)内。

8.根据权利要求1至6任一项所述的硅片镀膜装置，其特征在于，所述载具处理机构(300)设有开关门(320)、第二电离组件(330)、与所述处理腔(310)连通的第一开口及与所述处理腔(310)连通的第二注气通道，所述第一开口朝向所述下料机构(400)设置，所述开关门(320)设置于所述第一开口处并用于控制所述第一开口的封闭与打开，所述第二电离组件(330)设置于所述处理腔(310)内。

9.根据权利要求1至6任一项所述的硅片镀膜装置，其特征在于，所述硅片镀膜装置还包括回传机构(700)及载具识别元件(800)，所述回传机构(700)与所述下料机构(400)对接以回传所述载具(1000)，所述载具识别元件(800)用于对所述回传机构(700)上的载具(1000)进行识别并进行使用次数的计数，所述载具识别元件(800)与所述下料机构(400)电性连接。

10.一种电池片生产系统，其特征在于，包括如权利要求1至9任一项所述的硅片镀膜装置。