[实用新型]排液管道和制绒系统、碱抛系统有效
申请号: | 202321066826.9 | 申请日: | 2023-05-06 |
公开(公告)号: | CN219553588U | 公开(公告)日: | 2023-08-18 |
发明(设计)人: | 袁东超;徐志雄;赵林云 | 申请(专利权)人: | 晶科能源(上饶)有限公司;晶科能源股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L31/18;F16L43/00;F16L47/00;C30B33/10;C30B29/06 |
代理公司: | 北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11603 | 代理人: | 于淼 |
地址: | 341000 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 管道 系统 | ||
1.一种排液管道,其特征在于,包括管道主体,所述管道主体包括第一管体和第二管体,所述第一管体与所述第二管体之间通过防气体倒灌装置相连通;
所述防气体倒灌装置包括第三管体,所述第三管体包括依次连通的子管体,相邻两个所述子管体之间通过第一连接件相连接,相邻多个子管体之间在第一方向上构成弯形管道,所述第一方向为由所述第一管体指向所述第二管体的方向;
靠近所述第一管体一侧的子管体通过第二连接件与所述第一管体相连通,靠近所述第二管体一侧的子管体通过第三连接件相连通。
2.根据权利要求1所述的排液管道,其特征在于,所述子管体包括依次连通的第一子管体、第二子管体、第三子管体和第四子管体,第一连接件包括第一子连接件、第二子连接件、第三子连接件和第四子连接件,第一子管体、第二子管体、第三子管体和第四子管体上分别套设有所述第一子连接件、所述第二子连接件、所述第三子连接件和所述第四子连接件;
所述第一子管体通过第二连接件与所述第一管体相连通,所述第四子管体通过第三连接件与所述第二管体相连通。
3.根据权利要求2所述的排液管道,其特征在于,所述第一子连接件、所述第二子连接件、所述第三子连接件和所述第四子连接件均为弯头,所述第二连接件和所述第三连接件均为由令活接。
4.根据权利要求3所述的排液管道,其特征在于,所述弯头为45度弯头。
5.根据权利要求2所述的排液管道,其特征在于,所述第一子管体靠近所述第一管体一侧与所述第一管体同轴,所述第一子管体远离所述第一管体一侧与所述第一管体不同轴;
所述第四子管体靠近所述第二管体一侧与所述第二管体同轴,所述第四子管体远离所述第二管体一侧与所述第二管体不同轴。
6.根据权利要求1所述的排液管道,其特征在于,所述第三管体的管径为50~100mm。
7.根据权利要求1-6任一项所述的排液管道,其特征在于,所述第一管体、第二管体和第三管体的材质均为塑料材质。
8.一种制绒系统,其特征在于,包括槽体、排液装置和污水站,所述槽体包括臭氧槽、酸槽、水槽和慢提拉槽,所述排液装置包括第一排液管道,所述臭氧槽、所述酸槽、所述水槽和所述慢提拉槽上均安装有所述第一排液管道,所述第一排液管道为上述权利要求1-7任一项所述的排液管道。
9.根据权利要求8所述的制绒系统,其特征在于,所述排液装置还包括第二排液管道和第三排液管道,污水站包括第一池体和第二池体;
第三排液管道包括第一子排液管道和第二子排液管道;
所述第一排液管道通过所述第二排液管道与第五排液管道相连通,所述第五排液管道连通于所述第一池体;
所述臭氧槽、所述酸槽和所述慢提拉槽通过第四排液管道与所述第一子排液管道相连通,所述第一子排液管道连通于所述第一池体;
所述第四排液管道通过第六排液管道与所述第二子排液管道相连通,所述第二子排液管道连通于所述第二池体;
所述第一排液管道、所述第二排液管道、所述第四排液管道和所述第六排液管道上均安装有阀门。
10.一种碱抛系统,其特征在于,包括槽体,所述槽体包括酸槽、水槽和慢提拉槽,所述酸槽、水槽和慢提拉槽均安装有排液管道,所述排液管道为上述权利要求1-7任一项所述的排液管道。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造