[其他]绝缘瓷套低温自催化镀镍镀铜工艺无效
申请号: | 85102168 | 申请日: | 1985-04-01 |
公开(公告)号: | CN85102168B | 公开(公告)日: | 1987-06-10 |
发明(设计)人: | 章兆兰 | 申请(专利权)人: | 陕西师范大学 |
主分类号: | C23C18/16 | 分类号: | C23C18/16;H01G13/00 |
代理公司: | 陕西师范大学专利代理事务所 | 代理人: | 樊锁强 |
地址: | 陕西省西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 绝缘 低温 催化 镀铜 工艺 | ||
1.电力电容器绝缘瓷套金属化的方法,其特征在 于将预处理后的瓷套,用化学镀的方法,先低温自催 化镀镍,然后再低温自催化镀铜。
2.按照权利要求1所说的方法,其预处理的步骤 为酸侵蚀、敏化、活化三部分,其特征在于酸蚀液是 由35ml/1HF和24g/1NH4F组成,操作条件是浸 泡3-5分钟;敏化液是由10g/1SnCl2和 40ml HCl(36-37%)组成,浸泡时间为1-3分钟;活 化液是由2.2ml/1 HCl(36-37%)和0.22g /1PdCl2组成,浸泡时间为1-3分钟。
3.按照权利要求1所说的方法,其特征在于低温 自催化镀镍的镀液由甲、乙两种溶液组成,其中:
使用时将甲、乙两种溶液按体积1∶1混合即 成镍镀液。
4.按照权利要求3所说的方法,其特征在于低温 自催化镍镀液中的甲液和乙液以如下组成为最佳:
5.按照权利要求3或4所说的方法,其特征在于 低温自催化镀镍的施镀条件为:在25-35℃, pH=9-10条件下,施镀50-60分钟。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理