[其他]咪唑并杂环化合物的制备方法无效

专利信息
申请号: 86104313 申请日: 1986-06-03
公开(公告)号: CN86104313A 公开(公告)日: 1987-03-04
发明(设计)人: 植田育男;盐川洋一;嶽一彦;井谷弘道 申请(专利权)人: 藤沢药品工业株式会社
主分类号: C07D471/04 分类号: C07D471/04;C07D487/04;//;20900;22100);20900;24100)
代理公司: 中国专利代理有限公司 代理人: 李雒英
地址: 日本大阪市*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 咪唑 杂环化合物 制备 方法
【权利要求书】:

1、一种制备下式咪唑并杂环化合物或其盐的方法:

其中R1是低级链烯基、低级炔基、低级链二烯基、低级链烯氧基(低级)烷基、低级炔氧基(低级)烷基、羧基(低级)炔氧基(低级)烷基或者保护的羧基(低级)炔氧基(低级)烷基,

R2是氢、低级烷基或芳基,

R3是可以有一个或者多个适当取代基的芳(低级)烷基、芳(低级)链烯基、稠合双环烃基、具有环(低级)烷基的低级烷基或者低级烷基,

X是O或NH,和

Y是CH或N,

其中包括:

(1)使下式化合物或其盐:

其中R3、X和Y各自定义如上,

与下式化合物或其盐反应:

其中R1和R2各自定义如上,和

Z1是酸残基,

生成下式化合物或其盐:

其中R1、R2、R3、X和Y各自定义如上,和

(2)使下式化合物或其盐经受异构化反应:

其中R2、R3、X和Y各自定义如上,和

R1a是低级炔基,

生成下式化合物或其盐:

其中R2、R3、X和Y各自定义如上,和

R1b是累积的低级链二烯基,和

(3)使下式化合物或其盐:

其中R2、R3、X和Y各自定义如上,

R4是低级亚烷基,和

Z2是离去基团,

与式R5-OH化合物或其盐反应,

其中R5是低级链烯基、低级炔基、羧基(低级)炔基或者

保护的羧基(低级)炔基,

生成下式化合物或其盐:

其中R2、R3、R4、R5、X和Y各自定义如上,及

(4)使下式化合物或其盐:

其中R2、R3、X和Y各自定义如上,和

R1c是(ω-低级炔氧基)(低级)烷基,

经受酰化反应,生成下式化合物或其盐:

其中R2、R3X和Y各自定义如上,和

R1d是(ω-羧基-ω低级炔氧基)(低级)烷基或者(ω-保护的羧基-ω-低级炔氧基)-(低级)烷基或者它的盐。

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