[其他]咪唑并杂环化合物的制备方法无效
申请号: | 86104313 | 申请日: | 1986-06-03 |
公开(公告)号: | CN86104313A | 公开(公告)日: | 1987-03-04 |
发明(设计)人: | 植田育男;盐川洋一;嶽一彦;井谷弘道 | 申请(专利权)人: | 藤沢药品工业株式会社 |
主分类号: | C07D471/04 | 分类号: | C07D471/04;C07D487/04;//;20900;22100);20900;24100) |
代理公司: | 中国专利代理有限公司 | 代理人: | 李雒英 |
地址: | 日本大阪市*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 咪唑 杂环化合物 制备 方法 | ||
1、一种制备下式咪唑并杂环化合物或其盐的方法:
其中R1是低级链烯基、低级炔基、低级链二烯基、低级链烯氧基(低级)烷基、低级炔氧基(低级)烷基、羧基(低级)炔氧基(低级)烷基或者保护的羧基(低级)炔氧基(低级)烷基,
R2是氢、低级烷基或芳基,
R3是可以有一个或者多个适当取代基的芳(低级)烷基、芳(低级)链烯基、稠合双环烃基、具有环(低级)烷基的低级烷基或者低级烷基,
X是O或NH,和
Y是CH或N,
其中包括:
(1)使下式化合物或其盐:
其中R3、X和Y各自定义如上,
与下式化合物或其盐反应:
其中R1和R2各自定义如上,和
Z1是酸残基,
生成下式化合物或其盐:
其中R1、R2、R3、X和Y各自定义如上,和
(2)使下式化合物或其盐经受异构化反应:
其中R2、R3、X和Y各自定义如上,和
R1a是低级炔基,
生成下式化合物或其盐:
其中R2、R3、X和Y各自定义如上,和
R1b是累积的低级链二烯基,和
(3)使下式化合物或其盐:
其中R2、R3、X和Y各自定义如上,
R4是低级亚烷基,和
Z2是离去基团,
与式R5-OH化合物或其盐反应,
其中R5是低级链烯基、低级炔基、羧基(低级)炔基或者
保护的羧基(低级)炔基,
生成下式化合物或其盐:
其中R2、R3、R4、R5、X和Y各自定义如上,及
(4)使下式化合物或其盐:
其中R2、R3、X和Y各自定义如上,和
R1c是(ω-低级炔氧基)(低级)烷基,
经受酰化反应,生成下式化合物或其盐:
其中R2、R3X和Y各自定义如上,和
R1d是(ω-羧基-ω低级炔氧基)(低级)烷基或者(ω-保护的羧基-ω-低级炔氧基)-(低级)烷基或者它的盐。
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