[发明专利]铸膜的制备方法

权利要求书

1、用低密度聚乙烯为基质的聚合物组合物制备铸膜的方法，其中聚合物组合物，在熔融状态下，由挤出机通过一个矩形模口挤出，然后应用一个或一组冷辊筒进行冷却及卷绕，其特征在于，将在模口处的熔体的温度为聚合物组合物的熔融温度至200℃的聚合物组合物进行加工，以制成X光衍射强度比为≥20和聚合物分子取向的平均方向与薄膜挤出方向之间的夹角α为≤20°的薄膜。

2、根据权利要求1的方法，其特征在于，将在模口处的熔体的温度为聚合物组合物的熔融温度至180℃的聚合物组合物进行加工。

3、根据权利要求2的方法，其特征在于，将在模口处的熔体的温度为聚合物组合物的熔融温度至160℃的聚合物组合物进行加工。

4、根据权利要求1的方法，其特征在于，应用熔体指数为2至100dg/min的聚合物组合物。

5、根据权利要求4的方法，其特征在于，应用熔体指数为8至75dg/min的聚合物组合物。

6、根据权利要求5的方法，其特征在于，应用熔体指数为10至50dg/min的聚合物组合物。

7、根据权利要求1的方法，其特征在于，应用最小为0.2mm的模口间隙。

8、根据权利要求7的方法，其特征在于，应用最小为1.5mm和最大为10mm的模口间隙。

9、根据权利要求8的方法，其特征在于，应用最小为2mm和最大为5mm的模口间隙。

10、根据权利要求1的方法，其特征在于，应用以乙烯和一种或多种极性共聚单体的共聚物为基质的聚合物组合物。

11、根据权利要求1的方法，其特征在于，应用以乙烯和一种或多种具有3-18个碳原子的1-烯烃的共聚物为基质的聚合物组合物。

12、根据权利要求11的方法，其特征在于，应用以密度低于922kg/m³的共聚物为基质的聚合物组合物。

13、根据权利要求1的方法，其特征在于，所制成的薄膜的强度比为≥50和α为≤15°。

14、根据权利要求1至13中的任何一项权利要求的方法，其特征在于制备多层产品。