[发明专利]铸膜的制备方法无效
申请号: | 86105243.9 | 申请日: | 1986-08-05 |
公开(公告)号: | CN1005967B | 公开(公告)日: | 1989-12-06 |
发明(设计)人: | 西奥多勒斯·雅各布斯·范·德·莫伦 | 申请(专利权)人: | 斯塔米尔卡本公司(DSM附属公司) |
主分类号: | B29C47/86 | 分类号: | B29C47/86;C08J5/18;//B29K2300B29L700 |
代理公司: | 中国专利代理有限公司 | 代理人: | 杨厚昌 |
地址: | 荷兰赫伦*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 方法 | ||
本发明是关于一种以低密度聚乙烯为基质的聚合物组合物的铸膜制备方法,其中聚合物的组合物在熔融状态下由挤出机通过一个矩形模口挤出,接着由一个或一组冷辊筒冷却及卷绕。
制备铸膜的方法本身是众所周知的,例如在“PetrothenePolyolefins……aprocessingguide”(由NationalDistillersandChemicalCoroporation出版,1971,第四版)中有介绍。
低密度的聚乙烯铸膜大规模用于包装材料。包装材料必须具备的机械性能主要是如抗挠性,抗撕裂性,抗拉强度,抗穿刺性等。
根据用途,在光学性质方面必须具备如低透明性,低遮光性,及高光泽性。
例如制备作为包装材料用的薄膜,须具有良好的抗撕裂性,而且抗挠性和抗拉强度必定要高,特别是当薄膜用于高速加工时尤甚。
从“PetrothenePolylefins……aprocessingguide”一文中得知,当聚合物在尽可能高的温度下加工时会获得最佳的光学性质。并不排除高达280℃。
本发明的目的是提供一种以低密度聚乙烯为基质的聚合物组合物的铸膜制备方法,所制得的薄膜具有良好的机械性能,显著高的抗挠性和抗拉强度,例如适合高速应用。
通过在模口处的熔体温度低于200℃下对熔融状态的聚合物组合物进行加工可达到上述目的。
当根据本发明的条件进行加工时,聚合物意外地发生特别取向作用,使薄膜获得良好的机械性能,如良好的抗拉强度和抗挠性等。这种作用是在模口处的熔体温度低于180℃时增加的,当此温度低于160℃,尤其是低于150℃时效果更加显著。
取向作用以最大强度和最小强度之比率(Imax/min)及平均分子取向与挤出方向的夹角α来表示。这些都可以通过X光衍射分析来测定。根据本发明制备的取向薄膜,Imax/min≥20和α≤20°,特别是分别≥50及≤15°。
本发明也涉及这种取向铸膜。
本发明的适合于作为铸膜加工的聚合物组合物一般最少含50%低密度的聚乙烯均聚物和(或)共聚物。一般低密度聚乙烯是指聚乙烯均聚物或共聚物具有密度低于940kg/m3。密度可以低至870kg/m3,但一般可高于890kg/m3,特别是高于900kg/m3。对极性共聚单体含量高的共聚物,其密度可增至大于940kg/m3。低密度聚乙烯均聚物,由乙烯和一种或多种C3-C18的1-烯烃作为共聚单体的共聚物,乙烯与一种或多种极性共聚单体的共聚物,以及由聚乙烯的均聚物和(或)共聚物组成的混合物,或例如高密度的聚乙烯(具有密度超过940kg/m3)和(或)聚丙烯的混合物都可得到良好的结果。这种由聚乙烯均聚物和(或)共聚物与高密度聚乙烯和(或)聚丙烯组成的混合物中最少含相对于聚合物总重量70%的低密度聚乙烯均聚物和(或)共聚物。若要制备具有良好光学性能的薄膜最好用由乙烯和一种或多种C3-C18的1-烯烃的共聚物,特别是具有密度低于922kg/m3或如乙烯一乙酸乙烯酯共聚物,或乙烯一甲基丙烯酸酯共聚物。
另外可加进各种添加剂,如稳定剂,润滑剂,填充剂,着色剂,腊及诸如此类等。若使用乙烯和含有一种或多种C3-C18的1-烯烃的共聚物时则可加进氟碳弹性体来防止或抑制熔体的断裂,一般添加剂的重量不超过聚合物重量20%,最好不超过10%。
根据ASTMD1238标准测定这些聚合物组合物的熔体指数可有一般的值,例如2~100dg/min。然而对于低加工温度最好选择熔体指数不低于8dg/min。当熔体指数高于75dg/min时低温加工带来的良好机械性能就会下降,最佳的熔体指数最高为50dg/min。
本发明的优点是虽然聚合物的组合物具较高的熔体指数,但仍可被加工成具有良好机械性能的铸膜。
另一优点是高度单轴取向薄膜可以不需增添设备就可制得。这可从在机器方向上抗拉强度明显增加来说明。
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