[其他]阴极射线管荧光面的形成方法无效
申请号: | 86107256 | 申请日: | 1986-10-25 |
公开(公告)号: | CN86107256A | 公开(公告)日: | 1987-05-13 |
发明(设计)人: | 佐合诚司;伊藤武夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01J9/227 | 分类号: | H01J9/227 |
代理公司: | 上海专利事务所 | 代理人: | 黄依文 |
地址: | 日本神奈川县*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阴极射线管 荧光 形成 方法 | ||
1、一种阴极射线管荧光面的形成方法,即在显像管面板上涂敷感光性粘附物质层,使前述物质层面曝光,形成粘附部位分布的图案,然后反复多次进行使荧光体粉末与该图案接触并粘附的工序,在这样的荧光面形成方法中,在继粘附第1荧光体的工序之后的工序中,至少包含一次对感光性粘附物质层进行加热的曝光前加热工序。
2、按权利要求1记载的阴极射线管荧光面的形成方法,使感光性粘附物质的曝光前加热工序介在先进行的荧光体粘附工序与后续的为使荧光体粘附进行的曝光的工序之间。
3、按权利要求1记载的阴极射线管荧光面的形成方法,上述荧光体是由蓝、绿、红3种荧光体组成,上述粘附工序反复进行3次。
4、按权利要求1记载的阴极射线管荧光面的形成方法,其中,感光性粘附物质层是以重氮盐为主体的感光性树脂。
5、按权利要求1记载的阴极射线管荧光面的形成方法,其中,曝光前加热工序的感光性粘附物质层的加热温度范围为40℃~110℃。
6、按权利要求1记载的阴极射线管荧光面的形成方法,其中,曝光前加热工序的感光性粘附物质层的加热温度为50℃以上,曝光工序的感光性粘附物质层的温度为35℃以下。
7、按权利要求1记载的阴极射线管荧光面的形成方法,其中,曝光工序的感光性粘附物质层的加热温度比曝光前加热工序的感光性粘附物质层的加热温度更低。
8、按权利要求1记载的阴极射线管荧光面的形成方法,其中,在曝光前加热工序中,感光性粘附物质层的加热是通过热风的喷射来进行的。
9、按权利要求1记载的阴极射线管荧光面的形成方法,其中,在曝光前加热工序中,感光性粘附物质层的加热是通过红外线照射来进行的。
10、按权利要求1记载的阴极射线管荧光面的形成方法,其特征是,在面板面上形成感光性粘附物质层,使前述物质层面曝光,形成粘附部位的分布图案,然后反复多次进行使荧光体粉末与该图案接触、粘附及除去残余荧光体粉末的工序,在上述曝光工序前,对上述物质层以低于其热分解温度的温度范围进行加热,并以上述物质层温度已下降了的状态进行上述曝光工序。
11、按权利要求1记载的阴极射线管荧光面的形成方法,其全部工序是在非干燥空气的环境气氛中进行的。
12、按权利要求1记载的阴极射线管荧光面的形成方法,具备在面板上形成感光性粘附物质层的工序,使上述物质层有选择性地曝光,形成具有规定的粘附部位的图案的工序及使荧光体粉末粘附在粘附部位的工序,具体来说,它包括如下工序:
a.在面板上涂敷感光性粘附物质层的工序,
b.使上述感光性粘附物质层有选择性地曝光,形成规定的粘附部位的第1曝光工序,
c.使第1荧光体与上述粘附部位接触并粘附的第1粘附工序,
d.对感光性粘附物质层进行加热的加热工序,
e.使上述感光性粘附物质层有选择性地曝光,形成规定的粘附部位的第2曝光工序,
f.使第2荧光体与粘附部位接触并粘附的第2粘附工序。
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