[其他]I型凹面光栅分度误差的检验方法无效

专利信息
申请号: 86107454 申请日: 1986-11-07
公开(公告)号: CN86107454A 公开(公告)日: 1988-05-18
发明(设计)人: 吴振华 申请(专利权)人: 北京光学仪器厂
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 北京市仪器仪表专利事务所 代理人: 王树政
地址: 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 凹面 光栅 分度 误差 检验 方法
【说明书】:

发明涉及一种Ⅰ型凹面光栅分度误差检验方法,适用于检验凹面光栅的分度精度。

现有的检验凹面光栅分度误差的方法是采用波面比较干涉仪,此方法能半定量地测量衍射波面的质量,而无法判定影响衍射波面质量的Ⅰ型凹面光栅分度误差的性质和大小。并且采用此方法检验不同的Ⅰ型凹面光栅时,参考镜需调换。

本发明的任务是要提供一种新型的Ⅰ型凹面光栅分度误差的检验方法。它能够定量地检验Ⅰ型凹面光栅的分度误差。并且由于采用了通过检查凹面光栅本身正负级光谱的衍射光束形成的干涉条纹,以确定凹面光栅的分度精度,所以不存在更换参考镜问题。图1是本发明的原理图。

本发明的任务是以如下方式完成的:

参见图1:从He-Ne激光器(1)射出的光束,经凹面反射镜(4)扩束,并经凹面反射镜(5)准直之后变为平行光束(7)和(7′),光束(7)直接射入凹面光栅(2),调节凹面光栅(2),使凹面光栅(2)的+M级光谱沿凹面光栅的表面中心处的法线方向衍射;平行光束(7′)经由平面反射镜(3)反射后,进入凹面光栅(2),调节平面反射镜(3),使凹面光栅(2)的-M级光谱也沿光栅表面中心处的法线方向衍射,+M级与-M级衍射光束在空间相会之后产生干涉条纹,干涉条纹的变形量△N(条纹数)与凹面光栅的分度误差△之间的关系如A式所示

△N= (2△)/(d) ·m (A)

d-光栅的刻线间隔

m-光谱级数

本发明制作方便,操作容易,测量精度高,成本较低。

以下将结合附图对发明作进一步的详细描述。

参照图1:

一个有中心孔(8)的凹面反射镜(5)与另一个凹面反射镜(4)凹面相对地被固定,两凹面反射镜的焦点连线应与来自激光器(1)的光束(9)的中心线重合,且两凹面反射镜的焦点要重合,这样,来自激光器(1)的平行光束(9)通过凹面反射镜(5)的中心孔(8)射向凹面反射镜(4),经凹面反射镜(4)反射到凹面反射镜(5),由凹面反射镜(5)射出的光束(7)、(7′)即为平行光束。在平行光束(7)的前方装有被测工作台,被测的Ⅰ型凹面光栅(2)放置在被测工作台上,此工作台能三维转动,以便调整入射光束(7)入射到Ⅰ型凹面光栅的角度,使Ⅰ型凹面光栅(2)的+M级光谱沿它的表面中心处的法线方向衍射;在平行光束(7′)的前方装有平面反射镜(3),此平面反射镜(3)可作三维转动,用以调整入射光束(7′),使之经此平面反射镜而入射到Ⅰ型凹面光栅后,-M级光谱沿凹面光栅(2)表面中心处的法线方向衍射。这样,在+M级与-M级衍射光束的相会处(6)即有干涉条纹产生。在满足上述条件下,干涉条纹的变形量△N(条纹数)与凹面光栅的分度误差△之间的关系如A式所示。由A式可知,同一块Ⅰ型凹面光栅采用不同级的光谱检验时,干涉条纹变形量也不同(级数越大,干涉条纹变形量越大)。表1是对3块Ⅰ型凹面光栅采用不同光谱级数的测定记录。

表1

勘误表

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