[其他]高能量γ射线刻度源装置无效
申请号: | 86204889 | 申请日: | 1986-07-04 |
公开(公告)号: | CN86204889U | 公开(公告)日: | 1987-06-24 |
发明(设计)人: | 叶宗垣;李景文;跃钢;施德棠 | 申请(专利权)人: | 中国原子能科学研究院 |
主分类号: | G01T3/00 | 分类号: | G01T3/00 |
代理公司: | 核工业部专利法律事务所 | 代理人: | 吴景夏 |
地址: | 北京二*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高能量 射线 刻度 装置 | ||
本实用新型属于一种简便的用于刻度γ射线探测器的高能量γ射线源装置。
通常刻度γ射线探测器的单能γ放射源的能量都在3MeV以下,要刻度高能量条件下的探测器的性能,就需在加速器或反应堆上利用核反应的方法来得到适用的γ射线源。但是,在加速器上能得到的单色γ射线能量是很有限的;在反应堆上用热中子俘获可产生各种能量的γ射线[参见雅列瑟克(Jarizyk)等的″能量高至11MeV反应堆高强度分列γ射线源″(The Nuclear Reactor as A High Intensity Source For Dis-crete Gamma Rays up to 11MeV),Nucl.Instr.and Meth.13(1961)287和李景文等的″高强度单色γ射线源装置″《原子核物理》6(1984)15]。但是由于周围本底大,给使用带来很大困难,并因有赖于反应堆而显得很不方便。
本实用新型目的是公开一种简便的用Am-Be之类的放射性中子源产生5~10MeV能量范围的单色γ射线源装置。
利用Am-Be中子源产生γ射线的基本原理是通过中子与原子核的(n,γ)反应发射特征单色γ射线,其能量在5~10MeV之间。Am-Be中子源通过(a,n)反应后主要发射4.43MeV的γ射线,发射高能量γ射线的几率很小。241Am本身发射的γ射线的能量都在1MeV以下,因此Am-Be中子源本身发射的γ射线不影响5MeV以上的γ射线的使用。通过(n,a)反应也能获得单色γ射线,但强度小。由于热中子的俘获截面远远大于其它能量的中子,若将Am-Be中子源发射的中子通过石蜡慢化,使热中子俘获成为主要的效应,然后选择合适的辐射体,则可得到适用的单色γ射线。
附图1是高能量γ射线刻度源装置示意图。由图可知,中子源[3]置于装置的中心,选用γ射线本底较小的中子源,如Am-Be中子源或Pu-Be中子源。中子源[3]周围是辐射体[4],辐射体样品如铁、镍或二氯化镁,它们俘获热中子产生特征γ射线。中子源与辐射体之间是慢化层[1]。辐射体[4]四周和顶上放置石蜡或聚乙烯作为反射层[2],用来反射热中子,并能减小中子散射引起的本底。在靠近探测器的一侧放置一块铋板作为过滤器[5],以滤除低能量γ射线。图中[6]为γ射线探测器。
实施例1:中子源[3]为Am-Be中子源,源强为105n/s,慢化层[1]是1cm厚的石蜡,辐射体[4]是2cm厚的铁,反射层[2]是5cm厚的石蜡,过滤器[5]是1cm厚的铋板。
为测试γ射线的性能,使用φ45×45mm3的同轴Ge(Li)探测器,它对60Co的1332keVγ射线的能量分辨为3.7keV。测量中使用的多道分析器的道宽约为10keV,对所得到的γ射线的能量使用1173,1332(60Co),1461(天然40K)和4430(Am-Be源本身)keV的γ源进行能量粗刻,再由核能级定出准确能量值。为减少低能γ射线的堆叠,在Ge(Li)探头的外面罩以厚为5mm的铅和3mm厚的铁组成的″帽子″,外加一层厚约5mm的由碳化硼和环氧树脂混合而形成的凝固体作为对中子的防护体。
图2是记录5小时后得到的γ射线谱,图形右边是7640keV的三根谱线,图中P,S,D分别表示全能峰,逃逸峰和双逃逸峰。图2的左边是Am-Be源本身发射的4.43MeV的三条射线,它们的半宽度约为80keV,这样大的宽度估计主要来源于碳核发射中子的反冲效应,这条γ射线的强度约为7640keVγ射线的20倍。与此同时,在能量更低处,还有一条由氢核俘获中子形成氘核而发射出的2223keV的单能γ射线,这在测量中看得十分清楚,它的能量分辨小于多道道宽(10keV)。
用探测效率已知的NaI(T1)闪烁探测器粗略估计7631和7645KeV这两条射线的总强度为5×102光子/秒。
实施例2:实施条件与实施例1基本相同,唯一不同点是将铁辐射体换成8mm厚的镍板。图3是测量2小时得到谱形的高能部分,镍俘获热中子以后产生γ射线中强度最大(8998keV)的一条γ射线。它占高能γ射线总数的40%。根据有关资料[Nucl.Data 3A(1967)367]得知,每俘获100个中子该射线的数目为26。图中7640keV是周围含铁材料引起的本底。
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