[其他]磁膜以及使用这种磁膜的磁头无效
申请号: | 87103907 | 申请日: | 1987-05-30 |
公开(公告)号: | CN1006107B | 公开(公告)日: | 1989-12-13 |
发明(设计)人: | 小林;俊雄;大友茂一;中谷亮一;熊坂登行 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立制作所 |
主分类号: | 分类号: | ||
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人: | 李勇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 以及 使用 这种 磁头 | ||
1、一种磁膜,以铁或由铁作为主要成分组成,包括从可填隙地溶于铁的硼、氮、碳和磷中选出的一种或多种元素,其特征在于,上述一种或多种元素是以可填隙地可溶方式包含在上述磁膜中的。
2、如权利要求1所述的磁膜,其特征在于,上述磁膜主要包括铁和5-20at·%的从可填隙地溶于铁的硼、氮、碳和磷中选出的一种或多种元素。
3、如权利要求1所述的磁膜,其特征在于,上述磁膜包括一个非晶体部分。
4、如权利要求1所述的磁膜,其特征在于,上述磁膜是由溅射形成的。
5、如权利要求1所述的磁膜,其特征在于,通过溅射一个由铁和从碳、硼、磷、氮化硼(BN)、碳化硼(B4C)及磷化硼(BP)中选出的至少一种物质构成的靶子来形成上述磁膜。
6、如权利要求1所述的磁膜,其特征在于,上述磁膜是排布在一个基底上的。
7、一种包括相互叠加的中间层和主磁膜的磁膜,每层主磁膜以铁或由铁作为主要成分组成,包括从可填隙地溶于铁的硼、氮、碳和磷中选出的一种或多种元素,其特征在于,上述一种或多种元素是以可填隙地可溶方式包含在上述主磁膜中的。
8、如权利要求7所述的磁膜,其特征在于,每个上述中间层由镍-铁合金组成。
9、如权利要求7所述的磁膜,其特征在于,每个上述中间层由非晶体磁合金组成。
10、如权利要求7所述的磁膜,其特征在于,每个上述中间层由钴-锆合金组成。
11、如权利要求7所述的磁膜,其特征在于,每个上述主磁膜主要包括铁和5-20at·%的从可填隙地溶于铁的硼、氮、碳和磷中选出的一种或多种元素。
12、如权利要求7所述的磁膜,其特征在于,每个上述主磁膜包括一个非晶体部分。
13、如权利要求7所述的磁膜,其特征在于,每个上述主磁膜由溅射形成。
14、如权利要求7所述的磁膜,其特征在于,通过溅射一个由铁和从碳、硼、磷、氮化硼(BN)、碳化硼(B4C)及磷化硼(BP)中选出的至少一种物质组成的靶子来形成每个上述主磁膜。
15、如权利要求7所述的磁膜,其特征在于,每个上述主磁膜是排布在一个基底上的。
16、一种具有一个磁极的磁头,上述磁极的至少一部分包括一个磁膜,该磁膜以铁或由铁作为主要成分组成,包括从可填隙地溶于铁的硼、氮、碳和磷中选出的一种或多种元素,其特征在于,上述一种或多种元素是以可填隙地可溶方式含在上述磁膜中的。
17、如权利要求16所述的磁头,其特征在于,上述磁膜主要包括铁和5-20at·%的从可填隙地溶于铁的硼、氮、碳和磷中选出的一种或多种元素。
18、如权利要求16所述的磁头,其特征在于,上述磁膜包括一个非晶体部分。
19、如权利要求16所述的磁头,其特征在于,上述磁膜由溅射形成。
20、如权利要求16所述的磁头,其特征在于,通过溅射一个由铁和从碳、硼、磷、氮化硼(BN)、碳化硼(B4C)及磷化硼(BP)中选出的至少一种物质组成的靶子来形成上述磁膜。
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