[其他]3-吡咯烷基硫代-1-氮杂双环[3,2,0]庚-2-烯-2-甲酸化合物及其制备方法无效

专利信息
申请号: 87107938 申请日: 1987-11-23
公开(公告)号: CN87107938A 公开(公告)日: 1988-08-10
发明(设计)人: 村田正好;津津美秀雄;松田启二;服部浩二;中尚志 申请(专利权)人: 藤沃药品工业株式会社
主分类号: C07D487/04 分类号: C07D487/04;//;20500;20900)
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利代理部 代理人: 戴真秀
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 吡咯 烷基 氮杂双环 甲酸 化合物 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1、一种制备下式化合物及其盐的方法:

式中R1是羧基或被护羧基,

R2是羟基(低级)烷基或被护羟基(低级)烷基,

R3是氢或低级烷基,

R4是被护或未被护的脲基(低级)烷基,

R5是氢、亚氨基代低级链烷酰基或亚氨基保护基,

A是低级亚烷基,

其中包括:

(a)使下式化合物:

式中R1、R2和R3各定义如上,

或其氧代基团上的反应性衍生物或其盐,

与下式化合物:

式中R4、R5和A各定义如上,或其盐反应以便生成下式化合物:

式中R1、R2、R3、R4、R5和A各定义如上,或其盐,和

(b)使下式化合物:

式中R2、R3、R4、R5和A各定义如上,而且R1a是被护羧基,或其盐在R1a上的羧基保护基经受消去反应,生成下式化合物:

式中R2、R3、R4、R5和A各定义如上,或其盐,以及

(c)使下式化合物:

式中R1、R2、R3、R4和A各定义如上,而且R5是亚氨基保护基,

或其盐在R5a上的亚氨基保护基经受消去反应生成下式化合物:

式中R1、R2、R3、R4和A各定义如上,或其盐,和

(d)使下式化合物:

式中R1、R3、R4、R5和A各定义如上,而且R2是被护羟基(低级)烷基,

或其盐在R2a上的羟基保护基经受消去反应,生成下式化合物:

式中R1、R3、R4、R5和A各定义如上,而且R2b是羟基(低级)级)烷基,

或其盐,以及

(e)使下式化合物:

式中R1、R2、R3、R4和A各定义如上,

或其盐与亚氨基代低级链烷酰化剂反应,生成下式化合物:

式中R1、R2、R3、R4和A各定义如上,而且R5b是亚氨基代低级链烷酰基,

或其盐。

2、一种制备下式化合物或其盐的方法,

式中R4、R5和A各定义如上,

其中包括使下式化合物或其盐经受其巯基保护基R6的消去反应:

式中R4、R5和A各定义如上,而且R6是巯基保护基。

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