[其他]3-吡咯烷基硫代-1-氮杂双环[3,2,0]庚-2-烯-2-甲酸化合物及其制备方法无效
申请号: | 87107938 | 申请日: | 1987-11-23 |
公开(公告)号: | CN87107938A | 公开(公告)日: | 1988-08-10 |
发明(设计)人: | 村田正好;津津美秀雄;松田启二;服部浩二;中尚志 | 申请(专利权)人: | 藤沃药品工业株式会社 |
主分类号: | C07D487/04 | 分类号: | C07D487/04;//;20500;20900) |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人: | 戴真秀 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 吡咯 烷基 氮杂双环 甲酸 化合物 及其 制备 方法 | ||
1、一种制备下式化合物及其盐的方法:
式中R1是羧基或被护羧基,
R2是羟基(低级)烷基或被护羟基(低级)烷基,
R3是氢或低级烷基,
R4是被护或未被护的脲基(低级)烷基,
R5是氢、亚氨基代低级链烷酰基或亚氨基保护基,
A是低级亚烷基,
其中包括:
(a)使下式化合物:
式中R1、R2和R3各定义如上,
或其氧代基团上的反应性衍生物或其盐,
与下式化合物:
式中R4、R5和A各定义如上,或其盐反应以便生成下式化合物:
式中R1、R2、R3、R4、R5和A各定义如上,或其盐,和
(b)使下式化合物:
式中R2、R3、R4、R5和A各定义如上,而且R1a是被护羧基,或其盐在R1a上的羧基保护基经受消去反应,生成下式化合物:
式中R2、R3、R4、R5和A各定义如上,或其盐,以及
(c)使下式化合物:
式中R1、R2、R3、R4和A各定义如上,而且R5是亚氨基保护基,
或其盐在R5a上的亚氨基保护基经受消去反应生成下式化合物:
式中R1、R2、R3、R4和A各定义如上,或其盐,和
(d)使下式化合物:
式中R1、R3、R4、R5和A各定义如上,而且R2是被护羟基(低级)烷基,
或其盐在R2a上的羟基保护基经受消去反应,生成下式化合物:
式中R1、R3、R4、R5和A各定义如上,而且R2b是羟基(低级)级)烷基,
或其盐,以及
(e)使下式化合物:
式中R1、R2、R3、R4和A各定义如上,
或其盐与亚氨基代低级链烷酰化剂反应,生成下式化合物:
式中R1、R2、R3、R4和A各定义如上,而且R5b是亚氨基代低级链烷酰基,
或其盐。
2、一种制备下式化合物或其盐的方法,
式中R4、R5和A各定义如上,
其中包括使下式化合物或其盐经受其巯基保护基R6的消去反应:
式中R4、R5和A各定义如上,而且R6是巯基保护基。
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