[发明专利]青霉素钠盐制备新工艺无效
申请号: | 88105332.5 | 申请日: | 1988-08-30 |
公开(公告)号: | CN1021968C | 公开(公告)日: | 1993-09-01 |
发明(设计)人: | 边翠芬;程军;张正海;冯品先;徐伯达;刘振坤 | 申请(专利权)人: | 山东济宁抗生素厂 |
主分类号: | C07D499/16 | 分类号: | C07D499/16 |
代理公司: | 济宁市专利事务所 | 代理人: | 李雁翔,江禹春 |
地址: | 山东省济*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 青霉素 钠盐 制备 新工艺 | ||
本发明涉及一种青霉素钠盐制备新工艺。
现有技术的青霉素钠盐工艺一般过程为:
滤液→一次BA提取液(第一次用醋酸正丁酯从滤液中提取出青霉素的液体)→RB提取液(用碳酸氢钠水溶液从一次BA中提取出青霉素的液体)→二次BA提取液(第二次用醋酸正丁酯从RB提取液中提取出青霉素的液体)→二次压滤BA(二次BA提取液经活性炭脱色并压滤后的液体)→醋酸钾乙醇溶液丁酯共
洗涤
沸结晶→工业钾盐→经离子交换树脂转化后的钠盐转化液
洗涤
→丁醇共沸结晶→钠盐双锥干燥→分装。
由于经醋酸钾乙醇溶液丁酯共沸结晶以后的工业钾盐经离子交换树脂转化成钠盐转化液,仅仅起转化作用而不能除去钾盐本身带来的色素,物料通过树脂柱也起不到提炼精制的作用。因此,钠盐成品质量几乎完全取决于工业钾盐的内在质量,如果工业钾盐质量很差,尽管经丁醇共沸结晶,钠盐成品质量仍然得不到保证,从而影响青霉素钠盐成品的色级,达不到1/2号的新优标准。
本发明的目的是克服现有技术的缺点,改进青霉素钾盐结晶工艺,提高其质量,使青霉素钠盐成品的色级达到1/2号的新优标准。
本发明的青霉素钠盐制备新工艺过程为:
滤液→一次BA提取液→RB提取液→二次BA提取液→
洗涤
二次压滤BA→醋酸钾水溶液丁酯共沸结晶→工业钾盐→经
洗涤
离子交换树脂转化后的钠盐转化液→丁醇共沸结晶→钠盐双锥干燥→分装
本发明的特征步骤在于用醋酸钾水溶液(反应剂)与含有青霉素的醋酸正丁酯共沸结晶工艺代替醋酸钾乙醇溶液(反应剂)与含有青霉素的醋酸正丁酯共沸结晶工艺、(简称醋酸钾水溶液丁酯共沸或醋酸钾乙醇溶液丁酯共沸),其技术构思为:
1、采用水溶液共沸结晶,利用较多的水份可溶解可溶性杂质,从母液中带走,有利于钾盐的洗涤,质量会因此而提高。
2、原醋酸钾乙醇溶液丁酯共沸结晶系三元共沸(乙醇、丁酯和水),而乙醇省去以后变成二元共沸。共沸点升高,结晶时间可能廷长,收率可能偏低。但只要找出最佳工艺控制是有可能避免的。
3、将乙醇割去以后可以节约原料,提高经济效益。
4、醋酸钾乙醇溶液中,主要是乙醇夹带色素不易在洗涤时洗去,使钾盐色级偏高,用无盐水代替乙醇后消除了乙醇色素的因素,提高工业钾盐的色泽。
为实现本发明的目的,醋酸钾水溶液丁酯共沸结晶工艺采取以下控制要点:
1、二次压滤BA质量标准
效价 色泽 水份(%) 污染数 澄清度 亿单位 体积 毛点
(u/ml) (级) (v/v) (杂质含量%) (l) (5ml溶液)
5.5-7万 2以下 1.2以下 0.235以下 澄清 850-1200 1500-1700 7以下
2、醋酸钾水溶液含量 65±5%(w/v)
水份 55-65%(v/v)
3、结晶时通入结晶罐夹层的热水温度 70-80℃
4、真空度(结晶罐内)700mmHg(或-0.092MPa)以上
5、共沸结晶终止气相温度 36-38℃
6、共沸结晶终止母液水份控制在0.65±0.1%(v/v)
7、共沸时间1.5-2hr左右
8、醋酸钾水溶液加量控制在
青霉素酸克分子∶醋酸钾克分子=1∶1.3-1∶1.4
如果污染数大于0.35%可适当多加醋酸钾水溶液但不超过1.5克分子醋酸钾。
9、共沸结晶补水量的控制:在2.5-3.0%(v/v)
10、共沸结晶终点母液效价3000u/ml以下。
在青霉素钠盐的生产工艺过程中,用醋酸钾乙醇溶液丁酯共沸结晶,乙醇消耗量大,成本高,且乙醇本身夹带的色素不易在洗涤时洗去,使钾盐的色级偏高,采用本发明的醋酸钾水溶液丁酯共沸结晶新工艺,用无盐水代替乙醇,不仅能消除乙醇色素,提高工业钾盐的色级,又能用较多的水份,溶解可溶性杂质,从母液中带走,有利于钾盐的洗涤,提高钾盐的质量,从而使青霉素钠盐的质量达到新优级品标准,且产品成本低。
本发明在发明单位实施效果极佳,具体表现在:
1、青霉素钠盐的中间体工业钾盐色级质量明显提高:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山东济宁抗生素厂,未经山东济宁抗生素厂许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/88105332.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C07D 杂环化合物
C07D499-00 杂环化合物,含有4-硫杂-1-氮杂双环[3.2.0]庚烷环系,即含有下式环系的化合物 ,例如,青霉素,青霉烯;这类环系进一步稠合,例如与含氧、含氮或含硫杂环2,3-稠合
C07D499-04 .制备
C07D499-21 .有氮原子直接连在位置6和3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-86 .只有1个除氮原子外的原子直接连在位置6,3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-87 .在位置3未取代或在位置3连有除仅两个甲基外的取代基,并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2的化合物
C07D499-88 .在位置2和3之间有双键并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基和氰基,直接连在位置2的化合物