[其他]双岛-梁-膜结构压力传感器无效

专利信息
申请号: 88211371 申请日: 1988-01-22
公开(公告)号: CN88211371U 公开(公告)日: 1988-12-28
发明(设计)人: 王言;于连忠;鲍敏杭 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: G01L9/06 分类号: G01L9/06
代理公司: 复旦大学专利事务所 代理人: 陆飞,滕怀流
地址: 上海市邯郸*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 双岛 膜结构 压力传感器
【说明书】:

实用新型属于半导体压力传感器领域。

已有的固态半导体压力传感器,其芯片一般采用由腐蚀或机械加工方法得到的膜式结构,然后在膜上制作敏感元件,成为膜式压力传感器。这种传感器除了广泛使用的平膜结构之外,也有采用膜上有单岛或双岛结构的,如1982年日本MICHITAK等人在“Sensors  and  Actuators”杂志上提出了在硅膜上加单岛以制作低量程压力传感器的方案,美国的Endervoc公司于1984年推出了一种更为先进的双岛结构。这类结构中,由于岛所在区域刚度很大,几乎没有形变,将应力集中在岛外的某些特定区域,提高了器件的灵敏度。但应力集中区是岛与岛之间和岛与边界之间的长条区域,敏感元件所在区域只占应力集中区的一小部分,整个应力集中区没有被完全利用。而且,线性度不够理想,尤其在高输出时,器件精度的进一步提高受到限制。另外,加了岛结构后,由于岛的质量较大,使器件频率响应很大地下降。

本实用新型对上述芯片的膜岛结构的压力传感器加以改进,以改善器件的线性度,并进一步提高其灵敏度。

本实用新型的芯片结构设计如下:在背面有矩形双岛的硅膜正面加了一条硅梁,该硅梁横贯两个硅岛的中部,将硅膜分为对称的两个部分,力敏元件设置在硅梁上,且位于硅岛与硅岛之间,硅岛与边界之间的相应部位,硅膜形状可以是圆形或矩形。

这种结构将原来的应力集中区域的面积进一步缩小,即从原来的长条区域缩小到岛与岛与边框之间的梁上,应力集中的效果就更为明显。如果说膜岛结构是将应力集中到岛与岛和岛与边界间隔的长条区域,则在膜岛结构中加了梁之后,长条区域中的应力集中到梁上,也就是实现了应力的第二次集中,将敏感元件设计在长条区中的梁上,则传感器的灵敏度必然提高。敏感元件可以是压阻全桥或单元件四端电阻。另外,由于梁结构具有较好的线性度,所以这种结构的传感器线性度也较好;由于硅梁的加入使硅岛与边界之间有刚度较大的硅梁相连,系统的频率响应与无梁的岛——膜结构相比有所提高。

当硅片的厚度为200~300微米时,硅膜的厚度约为10到20微米,如果量程较大,则硅膜厚些,反之则薄些。

硅梁位于硅膜中部,为矩形膜二边长中点的连线,将硅膜一分为二,硅梁的长度与硅膜的宽度相等,正面的硅梁图形和背面的硅膜图形相互套准。梁的宽度则是越窄时,应力集中效果越好,在能容得下力敏电阻和引出线的情况下,宽度小些为好。硅梁的厚度视量程而定,可为膜厚的1至3倍。

位于岛与岛和岛与边界之间的梁(共有三段)是应力集中区域,这三段梁越短,则应力集中的效果越好,所以在能容得下敏感元件的情况下,这三段间距(即岛与岛的距离和岛与边界的距离)小些为宜,每段间距可取整个硅膜宽度的5%~10%。如果将岛的长度取得大些,则应力集中的效果更加好,但是也不能太大,因为如果岛与边框过分接近,将会使岛的位移受到横向的牵制反而使灵敏度下降,可以取岛的长度为该方向硅膜长度的40%~60%。

图1为双岛-梁-膜结构压力传感器芯片正视图。

图2为图1中D-D′处的剖示图。

图3为图1中A-A′处的剖示图。

图4为图1中B-B′处的剖示图。

图5为图1中C-C′处的剖示图。

图6为压力传感器封装结构图。

其中1为矩形硅膜,2为在硅膜背面的矩形岛(虚线方框),3为横贯双岛中部的硅梁,4为设置在硅梁上的力敏元件,5为硅膜边框,6为硅芯片,7为底板,8为玻璃环柱,9为内引线,10为管脚,11为管座,12为通气孔,13为外壳。h1为硅梁厚度,h2为硅膜厚度,P为压力。

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