[发明专利]对运动过程流中的物质作分光光度分析的装置和方法无效
申请号: | 89100057.7 | 申请日: | 1989-01-03 |
公开(公告)号: | CN1039116A | 公开(公告)日: | 1990-01-24 |
发明(设计)人: | 罗伯特J·哈维 | 申请(专利权)人: | 自动控制装置-机械制造有限公司 |
主分类号: | G01N21/35 | 分类号: | G01N21/35;G01J3/28 |
代理公司: | 上海专利事务所 | 代理人: | 吴淑芳 |
地址: | 联邦德国8*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 运动 过程 中的 物质 分光 光度 分析 装置 方法 | ||
1、一种对在运动过程流中的物质作分光光度分析的装置,其特征在于,物质被导入一取样室里的观察室中,并受到适用于分光光度分析的辐射束的照射,上述装置包括:
(a)容纳在第一分隔间里的一个辐射源和一个辐射探测器;
(b)与第一分隔间环境隔离的容纳有上述取样室的第二分隔间;
(c)安置在上述第二分隔间里用于接收来自上述第一分隔间的辐射光束、使上述辐射光束穿过取样室和其中所包含的待分析的物质、并使辐射光束射回置有辐射探测器的第一分隔间的反射装置;
(d)上述第二分隔间包括维持其环境处于适合于对取样室里的物质作辐射分析的范围内的装置;以及
(e)安置在上述第二分隔间里的用于使辐射光束转向不穿过上述物质和用于在与取样室相同的环境里形成一参考光谱以及使上述转向的光束射向辐射探测器的参考装置。
2、按照权利要求1所述的装置,其特征在于,上述反射装置至少包括第一和第二主反射镜,上述第一主反射镜位于上述取样室的上游,用于使上述辐射光束射入并穿过上述取样室,上述第二主反射镜位于上述取样室的下游,用于使上述辐射光束离开取样室而射向置有辐射探测器的第一分隔室。
3、按照权利要求2所述的装置,其特征在于,上述反射装置至少包括第一和第二主反射镜,上述第一主反射镜位于上述取样室的上游,用于使上述辐射光束射入并穿过上述取样室,上述第二主反射镜安置于上述取样室的下游,用于使上述辐射光束离开取样室而射向置有辐射探测器的第一分隔间,并且上述参考装置包括一位于取样室上游的、用于使上述辐射光束转到取样室的下游一侧,通过第二分隔间的环境而不穿过取样室里的物质的副反射镜。
4、按照权利要求1所述的装置,其特征在于,上述反射装置至少包括第一和第二主反射镜,上述第一主反射镜位于上述取样室的上游,用于使上述辐射光束射入并穿过上述取样室,上述第二主反射镜置于上述取样室的下游,用于使上述辐射光束离开取样室而射向置有辐射探测器的第一分隔间,并且上述参考装置包括一位于上述取样室上游的、用于使上述辐射光束转向到取样室的下游一侧,通过第二分隔间的环境而不穿过取样室里的物质的第一副反射镜,以及一位于取样下游的、用于接收由上述第一副反射镜反射的辐射光束并使辐射光束射出第二分隔间外的第二副反射镜。
5、按照权利要求1、2、3或4所述的装置,其特征在于,上述装置包括一付里叶变换红外(FT IR)系统。
6、按照权利要求1、2、3或4所述的装置,其特征在于,上述装置包括一用于对运动过程流里的熔融的聚合物进行分光光度分析的FT IR系统。
7、按照权利要求2、3或4所述的装置,其特征在于,每一个副反射镜包含一个当需要一参考光谱时使上述副反射镜绕枢轴旋转到辐射光束的光路中的枢轴装置。
8、一种对运动过程流中的物质作分光光度分析的方法,其特征在于,物质被导入在一取样室里的观察室中,并受到适用于分光光度分析的辐射光束的照射,上述方法包括:
(a)提供容纳在第一分隔间里的一个辐射源和一个辐射探测器;
(b)提供一个与上述第一分隔环境隔离的容纳有上述取样室的第二分隔间;
(c)提供安置在上述第二分隔间里、用于接收来自上述第一分隔间的辐射光束、使上述辐射光束穿过上述取样室和其中所包含的被分析的物质并使辐射光束反射回置有辐射探测器的第一分隔间的反射装置;
(d)使第二分隔间的环境保持在适合于对取样室里的物质作辐射分析的范围之内;
(e)将辐射光束转向不让光束穿过物质但光束仍继续通过第二分隔间的环境;
(f)使上述转向的光束射向辐射探测器;以及
(g)在与取样室相同的环境里形成一参考光谱。
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