[发明专利]等离子体处理方法和设备

权利要求书

1、一种等离子体处理设备，其特征在于，该设备包括：

-真空室；

-真空泵，连接到所述真空室，以便将所述真空室抽成真空；

-气体引入系统，连接到所述真空室，以便将反应气体输入所述真空室中；

-对第一电极，设在所述真空室中；

-第一电压源，用以将第一高频交流电压加到所述各第一电极之间，以便将所述真空室中的反应气体转化成等离子体；

-基片架，用以将所述设备要处理的基片支撑在所述各第一电极之间；

至少一对第二电极，配置得使所述基片架所支撑的基片位于所述第二电极之间，和所述基片是绝缘的且和所述第二电极在空间上隔离；以及

-第二电压源，用以将第二交流电压加到所述各第二电极之间，从而增强所述基片表面的溅射作用。

2、权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第一交流电压的频率选取1兆赫至50兆赫的范围。

3、权利要求2所述的设备，其特征在于，所述第二交流电压的频率选取10赫至100千赫的范围。

4、权利要求3所述的设备，其特征在于，所述基片架适宜支撑多个基片，以便将所述基片彼此分开平行配置。

5、权利要求4所述的设备，其特征在于，所述各第二电极分别配置在所述诸基片各毗邻基片之间。

6、权利要求1所述的设备，其特征在于，所述至少一块基片垂直于所述第一电极且平行于所述第二电极配置。

7、权利要求1所述的设备，其特征在于，所述基片由一绝缘材料组成。

8、权利要求7所述的设备，其特征在于，所述基片是车窗。

9、权利要求7所述的设备，其特征在于，所述绝缘材料选自聚酯、醇酸树脂、不饱和聚酯、丙烯酸树脂和氨基树脂。

10、权利要求1所述的设备，其特征在于，所述基片架借助于电容器与所述反应室绝缘。

11、权利要求1所述的设备，其特征在于，所述等离子体处理是一刻蚀工序。

12、权利要求1所述的设备，其特征在于，所述等离子处理是一淀程工序。