[发明专利]用于玻璃纤维初坯热处理的方法无效
| 申请号： | 90103293.X | 申请日： | 1990-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN1029952C | 公开（公告）日： | 1995-10-11 |
| 发明（设计）人： | 石川真二;大贺裕一;土谷一郎;金森弘雄;横田弘;京藤伦久 | 申请（专利权）人： | 住友电气工业株式会社 |
| 主分类号： | C03B37/012 | 分类号： | C03B37/012;C03B20/00;G02B6/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王景朝,杨丽琴 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 玻璃纤维 热处理 方法 | ||
【权利要求书】：
1、一种用来对用于拉制光学纤维的多孔玻璃初坯进行脱水和净化的热处理方法，该方法包括在高温下使所述的多孔玻璃初坯通过一个套管，其中所述套管包含碳、氧化铝和SiC烧结材料中的至少一种，并且所述套管形成一个在一端有开口的空腔，所述多孔玻璃初坯通过所述开口通到所述套管中，所述方法的特征在于：
多孔玻璃初坯的通入步骤是在一种包含惰性气体和四氯化硅的气氛中进行的，以及
暴露于四氯化硅的套管的表面是一种SiC覆层。
2、根据权利要求1的方法，其特征在于，所述气氛还包含氯气。
3、根据权利要求2的方法，其特征在于，所述氯气与所述惰性气体的体积百分比率是0.1-10%，而所述四氯化硅气体与所述惰性气体的体积百分比率是0.3-10%。
4、根据权利要求1的方法，其特征在于，所述四氯化硅与所述惰性气体的体积百分比率是0.3-10%。
5、根据权利要求1的方法，其特征在于，所述初坯的加热温度为800-1200℃。
6、根据权利要求1的方法，其特征在于，SiC覆层的纯度，当以总灰分含量来表示时，其总灰分含量不超过50ppm。
7、根据权利要求1的方法，其特征在于，SiC覆层是采用选自PCVD涂覆法和CVD涂覆法这两种方法中的一种来形成的。
8、根据权利要求1的方法，其特征在于，SiC覆层的厚度不小于1μm。
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