[发明专利]抗真菌用的唑酮类衍生物的制备方法

权利要求书

1、一种制备结构式如下的化合物或其立体化学异构体的方法

其中Q为CH或N；

Y为结构式如下的基团

R¹为C_5-7环烷基或一、二、三或四卤C_1-4烷基；R²为C_1-6烷基，C_5-7环烷基或一、二、三或四卤C_1-4烷基；所述方法的特征在于：

a)在一种碱的存在下，在一种惰性溶剂中将结构式如下的一种酚

用结构式为D-CH₂-W(Ⅱ)的一种烷基化剂进行O-烷基化反应，式中W为一个活性离去基团；

b)在一种酸的存在下，在一种惰性溶剂中将结构式如下的一种中间体

用结构式为(L²)₂-CH-CH₂-NHR²(ⅩⅫ)的一种试剂进行环化反应，式中L¹和L²为活性离去基团，D贩结构式如下：

如进一步需要时，制备其立体化学异构体。

2、根据权利要求1的方法，其中在原料中，Q为N;二氧戊环环上的取代基为顺式构型。

3、根据权利要求2的方法，其中在原料中R¹为一、二、三或四氟C_1-4烷基、环己基或环戊基;R²为一、二、三或四氟C_1-4烷基、环己基、环戊基或C_1-4烷基。

4、根据权利要求3的方法，其中在原料中，R¹为2，2，2-三氟乙基、2，2，3，3-四氟丙基或环戊基;R²为2，2，2-三氟乙基、2，2，3，3-四氟丙基、环戊基、丙基、1-甲基丙基、2-甲基丙基或丁基。

5、根据权利要求1的方法，其中，在原料中Q为N，Y结构式如下的基团;