[发明专利]氮化硼坩埚及其制造方法

权利要求书

1.一种用于制备带有一个开口端的氮化硼坩埚的方法，其中包括以下几个步骤：

(a)预制一个卷筒，该卷筒具有将要制备的一端开口坩埚所要求的形状，并将氮化硼沉积到该卷筒上，直至在该卷筒上沉积的氮化硼达到所要求的厚度为止；

(b)在坩埚的表面上的选定区域上，将石墨沉积到已沉积氮化硼的坩埚上，直至在该选定的区域上沉积的石墨达到所要求的厚度为止；

(c)将氮化硼沉积到所述已沉积的石墨上直至沉积的氮化硼达到所要求的厚度为止；和

(d)从卷筒上取出氮化硼坩埚，该坩埚至少在一部分外表面上具有热解石墨内层和热解氮化硼外层；其中，在步骤(b)中沉积的石墨厚度从0.001到0.1英寸，而且在步骤(c)中在已沉积的石墨上沉积的氮化硼的厚度从0.002到0.04英寸。

2.根据权利要求1的方法，其特征是在步骤(b)中坩埚表面上所选定的区域为从坩埚长度的10-％到80％。

3.根据权利要求2的方法，其特征是在步骤(b)中所选定的区域从靠近坩埚开口端开始。

4.一种具有一个封闭端，一个开口端，从开口端到闭口端的一段长度，一个内表面和一个外表面的氮化硼坩埚，其特征是至少有一部分坩埚的外表面有包括热解石墨内层和与该内层完全叠合的热解氮化硼外层的一种双涂层，并且所述内层或外层均不是坩埚的结构组成部分。

5.根据权利要求4的氮化硼坩埚，其特征是热解石墨内层厚度从0.001到0.1英寸。

6.根据权利要求4的氮化硼坩埚，其特征是热解氮化硼外层厚度从0.002到0.04英寸。

7.根据权利要求4的氮化硼坩埚，其特征是热解石墨内层厚度从0.001到0.01英寸，而热解氮化硼外层厚度从0.004到0.01英寸。

8.根据权利要求4的氮化硼坩埚，其特征是双涂层长度可延伸为氮化硼坩埚长度的10％到80％。

9.根据权利要求4的氮化硼坩埚，其特征是该坩埚为单层壁氮化硼坩埚。

10.根据权利要求4的氮化硼坩埚，其特征是该坩埚为多层壁氮化硼坩埚。

11.根据权利要求4的氮化硼坩埚，其特征是双涂层在从坩埚开口端开始的外表面上延伸为氮化硼坩埚长度的10％到80％。

12.根据权利要求4的氮化硼坩埚，其特征是热解石墨内层厚度从0.001到0.1英寸，而热解氮化硼外层厚度从0.002到0.04英寸。