[发明专利]烃类氢卤化的方法和催化剂

权利要求书

1、从甲醇和卤化氢制备卤代甲烷的方法，该方法包括在足以形成卤代甲烷的反应条件下，使所述的甲醇和卤化氢与具有至少二个区的氢卤化催化剂系统接触，其中每一个区的催化活性都低于后一个区的催化活性。

2、根据权利要求1的方法，其中的催化剂至少有3个区。

3、根据权利要求1的方法，其中的催化剂有2至4个区。

4、根据权利要求1的方法，其中的催化剂选自无定形氧化铝和载体上的KCl/ZnCl₂。

5、根据权利要求4的方法，其中的催化剂系统包括无定形氧化铝;有三个区，以每个区中氧化铝比表面积大于前一区中氧化铝比表面积为条件，第一区中氧化铝的比表面积为40平方米/克至100平方米/克，第二区中氧化铝的比表面积为70平方米/克至150平方米/克;第三区中氧化铝的比表面积为150平方米/克至250平方米/克。

6、根据权利要求5的方法，其中在第一区和第二区中催化剂各占10%至30%，第三区中的催化剂为40%至80%。

7、根据权利要求4的方法，其中的催化剂是无定形氧化铝，其最小孔径分布为100埃或以下的范围内。

8、根据权利要求4的方法，其中的催化剂是载体上的ZnCl₂/KCl。

9、氢卤化催化剂，在氢卤化反应器中用于甲醇和卤化氢气体混合物反应，该催化剂具有结焦减少，在催化剂寿命期内压降降低，催化剂寿命延长等特点，所述的催化剂包括至少2个区，其中每个区的催化活性低于后一个区的催化活性。

10、根据权利要求9的催化剂，其中所述的氢卤化催化剂为氧化铝，选自β-、γ-、η-和χ氧化铝这一类组，并且最初不含勃姆石。

11、根据权利要求10的催化剂，其中所述的氢卤化催化剂的最小孔径分布为100埃或以下范围内。

12、根据权利要求9的催化剂，该催化剂包括第一区，其中催化剂选自比表面积为20平方米/克至100平方米/克的低比表面积氧化铝，和第二区，其中催化剂选自比表面积为50平方米/克至150平方米/克的氧化铝，和第三区，其中催化剂选自比表面积大于150平方米/克的氧化铝，以每个后面的区的氧化铝比表面积高于前一个区的比表面积为条件，其中所述的催化剂床包括使所述的烃基醇与卤化氢气体混合物最初接触的第一个区及含有较高比表面积氧化铝催化剂的其它催化区。

13、根据权利要求9的催化剂，包括第一区，其中催化剂选自比表面积为20平方米/克至100平方米/克的低比表面积氧化铝，和第二区，其中催化剂选自比表面积大于100平方米/克的氧化铝，以每一个后面的区中氧化铝的比表面积高于前一个区中的比表面积为条件，其中所述的催化剂床包括使所述的烃基醇与卤化氢气体混合物最初接触的第一个区及含有较高比表面积氧化铝催化剂的其它催化区。