[发明专利]优质金刚石单晶的生长技术无效

专利信息
申请号: 91107563.1 申请日: 1991-12-24
公开(公告)号: CN1073616A 公开(公告)日: 1993-06-30
发明(设计)人: 亓曾笃;曹振骏;周军学;陈光耀;朱德渝;陈文琍;柴文辉 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: B01J3/06 分类号: B01J3/06;C30B29/04
代理公司: 中国科学院上海专利事务所 代理人: 聂淑仪
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 优质 金刚石 生长 技术
【说明书】:

发明涉及金刚石的生长,特别是涉及优质金刚石单晶的生长技术,属于晶体生长领域。

优质单晶金刚石主要用于制造锯片、滚轮修正器和孕镶地质钻头。目前国内生产金刚石方法主要缺点是:1、所用的传压介质是用水玻璃作为粘结剂,由叶蜡石粉构成的,这种传压介质不能经高温处理。因此,叶蜡石中的吸附水,尤其是结晶水及其它有害成份严重影响金刚石生长;2、生产金刚石时超高压高温腔体的组装不合理,如图1所示,作为熔(催化剂)的合金与作为生长金刚石原料的石墨串联组合,这样的组装法,通电以后,由于石墨的电阻远大于合金的电阻,致使石墨的温度远高于合金的温度。这种温度分布极不利于金刚石的生长,因介面处部份石墨变成金刚石后,电阻变化大,使温度难以控制,不易延长生产时间等。由于以上原因,腔体中的气氛、温度分布及与其有关的压力分布极不合理,结果是生长的金刚石的数量少,质量差。美国的G.E公司、南非的De  Beer′s公司生产金刚石的水平虽属国际领先,但其超高高温腔体的组装法也属图1类型,传压介质及控温控压技术属保密技术,未见报导。

本发明的目的在于提供一种优质金刚石单晶的生长技术,用新型的陶瓷结构半干压成型的传压介质替代传统的传压介质;采用合金-石墨并联式的组装结构,替代现有技术的串联结构,即可克服现有技术很难生长优质金刚石单晶的各种缺点,可以进行批量生产,从而满足国内外市场对优质金刚石单晶的需求。

本发明的技术内容包括:

1、采用陶瓷结构半干压成型的传压介质,替代传统的传压介质,叶蜡石粉用有机粘结剂粘结成型,经800℃以上高温处理,以排除吸附水、结晶水及其他有害成份,因此消除了在超高压高温条件下,由于相变引起的体积收缩而造成的压力下降,导热性能的变化及对腔体内的污染;

2、采用合金石墨相间并联式的组装结构(图2)。这种组装法可使通电以后合金的温度高,石墨的温度低,部份石墨变成金刚石后,电阻变化小,温度稳定,便于延长生长时间,这给生长质量好,粒度大,数量多的金刚石提供了好的温度及与其相关的压力条件;

3、生长金刚石的合金片由原来的园片状,改为矩形。

本发明的效果如下:

1、由于采用了新的传压介质和合金-石墨相间并联的腔体组装方法,金刚石的单次产量由原来的4-5克拉增加到6-8克拉;

2、生长的金刚石的质量明显提高,1/3以上的晶体晶形完整,缺陷少,晶形完整者的抗压强度从原来的15-20kg提高到30-40kg;其中有相当部份超过50kg,达到国际先进水平。(如美国GE公司、南非De  Beer′s公司的水平);

3、合金的用量减少30%以上,降低了金刚石的生产成本。

附图说明如下:

图1为传统技术串联式组装腔体示意图

图2为本发明并联式组装腔体示意图

图中1-导电环  2-导电片  3-传压介质

4-石墨  5-合金

本发明由以下实施例完成:

实施例1  半干压成型陶瓷传压介质的制备

取5公斤粒度为24目以细的叶蜡石粉,加入250CC聚乙烯醇饱和水溶液,混匀后,用模具压制成型,经850℃焙烧后使用,此种传压介质消除了有害成份和由水份引起的相变层;又可以提高传压效率。

实施例2  合金-石墨相间并联腔体的组装组合图2进行

在直径为22mm,高为38mm的园柱形腔体中交替放置厚度为0.5mm,高为10mm的合金片5(共12片);和厚度为1.2mm,高为16mm的石墨片4(共13片);合金与石墨片的两端分别放置直径为22mm,厚为4mm的石墨片和直径为22mm,厚为0.5mm的钼片(导电片2),最外端是内外径为18mm和20mm的高导电钢圈(导电环1),传压介质3作为腔壁。用此组装,生长周期为10分钟,单产40-80目金刚石可达8克拉以上,其中高质量者占1/3以上。

实施例3:

用实例2的并联式组装的腔体生长优质金刚石

(1)在有效体积为6cm3的腔体中,用厚度为0.5mm的Nl MnCo合金和0.8mm厚的石墨片,压力为5.8GPa左右和1300℃条件下保温保压10分钟,可生产40-80目金刚石8克拉,其中优质金刚石占1/3以上。

(2)用厚度为0.7mm的Nl  MnCo合金与1.2mm厚的石墨片,保温保压12分钟,单产40-60目金刚石6-8克拉,其中30-40%的晶体抗压强度为30-40kg。

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