[发明专利]一种生成粗大和高通过性屏蔽材料的方法及如此生成的材料

说明书

本发明主要涉及生成带孔屏蔽材料（Screen    material）的方法，该方法是使先前已形成的导电屏蔽骨架变粗，所使用的办法是使电解浴中的金属沉积直至达到屏蔽材料的最终粗度，而在用于金属沉积的电解浴中至少存在一种光亮剂。

这样一种方法公开在US-A-2226384。在该专利说明书中描述了一种方法，在该方法中，在一种其缺口已用绝缘材料填上的金属基质上，沉积上一种金属例如镍，沉积之后，从基质上除掉镍层。往凹痕之间的基质金属部分施以脱膜剂可以除去镍，这种脱膜剂可以是防止粘附的有机材料;而现今，也可使用有机塑料例如聚四氟乙烯，以及防止粘附的金属物质例如铬;某些类型的钢和某些金属氧化物。从基质把沉积层除去以后，在腐蚀操作中把这种屏蔽型沉积金属除去，然后把如此生成的骨架放在金属电解浴的阴极之上，则所形成的骨架被腐蚀，增粗过程中金属增长自位于同一平面作为收集条的如此生成的骨架开始，垂直于此平面的两面均增长，平面本身也增长。因为在该平面存在金属增长，因此先前生成的屏蔽骨架孔眼将明显变小，因此通过性降低，经常用于表示增粗性质的标准是所谓增长率，其定义为：R＝ (a+b)/(c+d) 在该增长率中，c和d是在骨架平面而且在条的最大尺寸处测得的最大增长粗细度，在这种导电屏蔽骨架电解增粗的情况中，人们一般会发现，增长率实际上等于1。

本发明的目的是提供一种上述类型方法，用这种方法，增长率可以达到大大地大于1，而且在垂直于骨架平面的增粗大于于平行于骨架平面方向的增粗。

根据本发明，该类型方法的特征在于该光亮剂具有第二类光亮剂的性质，而且它们在浴中的浓度被调节到这样一种水平以使得增长率＞1。

人们已经发现，存在着一大组化合物，它们具有的性质一般称作第二类光亮剂的性质。

为了考察电镀工业中一般使用的光亮剂，可以参阅Fredrick    A.Lowenheim所著的“Modern    Electroplating（现代电镀）”（John    Wiley    and    Sons出版社），第3版，1973年，第286及其后各页，而特别是202页和203页。在该出版物中，很多具有第二类光亮剂性质的光亮剂是不饱和化合物，后者当用于电镀浴时，将在阴极发生还原反应。

为进行本发明的方法，将它们在浴中的浓度调节和维持在这样一种水平，使得能重复获得增长率＞1因而是重要的。具体地说，因此要将光亮剂的浓度值维持在1毫克/升至250毫克/升之间，优选值在20毫克/升至150毫克/升之间，以使得电镀转移率在1.25至5.0之间。因为第二类光亮剂发生还原，在某些情况下其浓度会降低至低于该极限;在这种情况下，需添加额外的具有第二类性能的光亮剂。

在研究的过程中发现，这类具有第二类光亮剂性能的光亮剂不仅影响如此生成的金属淀积物的增长率，也影响其物理材料性质。具体地说，业已发现，所用的光亮剂影响如此生成的金属淀积物的内应力，并因而影响包括骨架及该淀积金属的所制得材料。

因此，在根据本发明的方法中，为了调节所制得材料的内应力，需要从下面进行选择较为有利：

a）一种具有第二类光亮剂性质的化合物，用它制得的屏蔽材料的内应力，比起不使用这种光亮剂而制得的屏蔽材料来提高了;

b）一种具有第二类光亮剂性质的化合物，用它制得的屏蔽材料的内应力，比起不使用这种光亮剂而制得的屏蔽材料来降低了;

c）a）和b）这两类化合物的混合物。

已经发现，存在一种具有第二类光亮剂性质的物质，使用它而制得的屏蔽材料的内应力比起不使用它而制得的屏蔽材料来提高了，也同时存在一种具有第二类光亮剂性质的物质，它确实降低了所制得屏蔽材料的内应力。也已发现，使用上述能提高或降低该内应力的物质的混合物，可把内应力调整到当使用这些光亮剂自身时所定下的极限内的任何值上。

在本发明的第一个优选具体实施中，使用了至少一种选自a）型光亮剂，后者选自：

有机醛化合物类，例如甲醛;

氯代或溴代醛类，例如水合氯醛;

1，2苯并吡喃酮类，例如香豆素;

不饱和羧酸及其酯类，例如邻-羟基肉桂酸和马来酸二乙酯;

乙炔化合物类，例如2-丁炔-1，4-二醇;

腈类，例如3-羟基丙腈;

喹啉    化合物类，喹哪啶鎓化合物类和吡啶鎓化合物类，例如N-甲基碘化喹啉;

氨基多芳基甲烷化合物类，例如三苯甲烷染料;

吖嗪，噻嗪和恶嗪染料类，例如亚甲基兰;