[发明专利]具有结晶晶界相的自增强氮化硅陶瓷及制备方法无效
申请号: | 92101118.0 | 申请日: | 1992-02-18 |
公开(公告)号: | CN1064261A | 公开(公告)日: | 1992-09-09 |
发明(设计)人: | C·J·黄;A·J·皮兹克 | 申请(专利权)人: | 陶氏化学公司 |
主分类号: | C04B35/58 | 分类号: | C04B35/58;C04B35/80 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人: | 徐汝巽 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 结晶 晶界相 增强 氮化 陶瓷 制备 方法 | ||
本发明涉及氮仳硅(Si3N4)陶瓷体,以及制备该陶瓷体的工艺。
众所周知氮化硅陶瓷具有极好的机械和物理性能,包括良好的抗磨损性,低热膨胀系数,良好的抗热震性,高抗蠕变性以及高电阻率。另外,氮化硅陶瓷能抗化学侵蚀,特别是抗氧化。由于这些特性,氮化硅在各种磨损和高温场合下非常有用,例如用作切削刀具和泵及发动机的部件。
氮化硅陶瓷的缺点一般与其脆性和裂纹有关。于是本发明的目标在于制备一种具有高断裂韧性(KIC)和强度的氮化硅陶瓷。断裂强度和断裂韧性成正比,与裂纹尺寸的平方根成反比。于是非常希望有高的断裂韧性和小的裂纹尺寸。然而,单相氮化硅具有较低的断裂韧性,为大约5MPa(m)1/2。
为了获得充分致密的氮化硅陶瓷,象氧化镁这样一种致密助剂,几乎总是必需的。在烧结时,致密助剂通常形成振动态晶界相,它作为基质,结晶氮化硅的晶粒夹嵌在其中。不利的是,玻璃相使得陶瓷在高温下强度降低且抗蠕变性差,玻璃相也使得在高温下抗氧化性变差。
如果晶界相是结晶相而不是玻璃相的话,所报导的氮化硅陶瓷的高温材料性能可以改善。例如,A.Tsuge,K.Nishida和M.Komatsu的文章,见Journalof Americam Ceramic Society(《美国陶瓷协会学报》),58,(1975)323-326,一种含有结晶晶界相的热压氮化硅陶瓷,结晶晶界相为Si3N4·Y2O3,是通过预烧然后热压以氮化硅和氧化钇为主的粉末制备而成的。与具有氧化钇的玻璃态晶界相的氮化硅陶瓷相比,所公开的陶瓷具有改善的高温强度。不利的是,预烧并热压的陶瓷不具有足够的强度和韧性,以满足目前的商业标准。
US 4,920,085公开了一种氮化硅烧结体,它包括β-Si3N4,进一步包括结晶晶界相,其含量占总的晶界相的量小于90%(重量),其余的为玻璃态组成。结晶相含有一种或多种化学计量组成M4Si2O7N2,M10Si2O23N4或MSiO2N,其中M是Sc,Tb,Er,Ho,或Dy。不利的是,这种烧结体具有相当量的玻璃界相,它降低了强度和抗蠕变性。
US4,883,776公开了一种制备氮化硅的工艺,该氮化硅体的断裂韧性大于6MPa(m)1/2,并且含有平均纵横比为至少2.5的β-氮化硅晶须。该工艺包括热压一种粉末混合物以形成坯体。该混合物包括氮化硅,氧化镁作为致密助剂,氧化钇作为转化助剂,以及氧化钙作为促进形成β-氮化硅晶须的化合物。
US 4,919,689公开了由US 4,883,776的工艺所制备的氮化硅体。
本发明的一个方面是一种制备自增强氮化硅陶瓷体的工艺,该陶瓷体含有以具有高平均纵横比(长度与直径之比)的β-氮化硅晶须为主的相,并且进一步含有具有一种氮氧化合物磷灰石结构的结晶晶界相。就本发明的目标,“高”的平均纵横比指是平均纵横比为至少2.5。该工艺包括使下列粉末的混合物:
(a)氮化硅的量足以提供一种陶瓷体;
(b)一种致密助剂包括一种Sr源,以及任选地,选自Ba,Ca,Li,Na或其混合物的元素源,所说的源的量足以促进粉末的致密化;
(c)一种转化助剂,包括选自Y,La,Ca,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Yb,Th或其混合物的元素源,所说的源的量足以促进起始氮化硅向主要是β-氮化硅的转化。
(d)至少一种晶须生长加强化合物,其量足以促进形成β-氮化硅晶须,所说的化合物是选自Ca,Li,Na,Sc,Ti,Al,或其混合物的元素的氧化物或非氧化物衍生物,但以该元素不同于致密助剂(b)的任选组分的元素为条件;并且
(e)氧化硅的量足以提供一种氮氧化合物磷灰石结晶晶界相;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陶氏化学公司,未经陶氏化学公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/92101118.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:空间滤波器
- 下一篇:用无压或低压气体烧结法制备的致密自增强氮化硅陶瓷