[发明专利]新的脲衍生物，它们的制备方法及其药物组合物

权利要求书

1、式(Ⅰ)化合物及其药物可以接受的盐：

其中R¹是可以被卤素、硝基、氨基、低级烷基氨基、低级烷氧基或酰氨基取代的芳基，

R²是氢；烷基；环烷基；或被环(低级)烷基、环(低级)烯基、杂环基或可以被选自卤素、羟基和低级烷氧基取代基取代的芳基取代的低级烷基；

R³是氢、低级烷基或可以被卤素、硝基、氨基或低级烷基氨基取代的芳基；

R⁴是氢、卤素、低级烷基、低级烷氧基或可以被卤素取代的芳基；

R⁵是氢、卤素、低级烷基或芳基，

A是单键或低级亚烷基，

X是O、S或NH，

当R²是环烷基时，假定R³是可以被卤素、硝基、氨基或低级烷基氨基取代的芳基，或

R⁴是卤素、低级烷氧基或可以被卤素取代的芳基。

2、根据权利要求1的化合物，

其中R²是氢;烷基;环烷基;或被环（低级）烷基、杂环基或可以被选自卤素、羟基和低级烷氧基取代基取代的芳基取代的低级烷基。

3、根据权利要求2的化合物，

其中R¹是可以被卤素、硝基、氨基、低级烷基氨基或低级烷氧基取代的芳基，

R²是烷基;环烷基;或被环（低级）烷基、杂环基或可以被选自卤素、羟基和低级烷氧基取代基取代的芳基取代的低级烷基，

R⁵是氢。

4、根据权利要求3的化合物，

其中R²是烷基;环烷基;或被芳基取代的低级烷基。

5、根据权利要求3的化合物，

其中R¹是可被卤素或低级烷氧基取代的芳基，

X是O或S。

6、根据权利要求5的化合物，

其中R³是氢或可被卤素取代的芳基，

R⁴是氢、卤素、低级烷基或可被卤素取代的芳基。

7、根据权利要求6的化合物，

其中R²是烷基，环烷基;或被芳基取代的低级烷基。

8、根据权利要求6的化合物，

其中R¹是被低级烷基、卤素或低级烷氧基取代的苯基

R²是烷基;环烷基;或被环（低级）烷基、呋喃基、噻吩基、吡啶基或可被选自低级烷基、卤素、羟基和低级烷氧基取代基任意取代的苯基取代的低级烷基;

R³是可被低级烷基或卤素取代的苯基;或

R¹和R²由上定义，R⁴是卤素或可被低级烷基或卤素取代的苯基。

9、根据权利要求8的化合物，

其中R¹是被卤素取代的苯基，

R²是可被呋喃基、噻吩基或可被选自低级烷基或卤素取代基任意取代的苯基取代的低级烷基，

R³是被低级烷基、卤素取代的苯基，

R⁴是卤素或低级烷基

10、N-苄基-N-〔3-（4-氯苯基）-5-甲基苯并呋喃-2-基甲基〕-N′-（2，4，6-三氟苯基）脲。

11、N-〔3-（4-溴苯基）-5-甲基苯并呋喃-2-基甲基〕-N-糠基-N′-（2，4，6-三氟苯基）脲。