[发明专利]光敏材料

说明书

本发明涉及用于化学成像的光敏材料，更准确地说是用一种新型鎓盐在敏化剂帮助下，在近紫外波段曝光成像的光敏材料。可应用于水性显影负性抗蚀剂。

可用于水性成像过程的光敏材料在工艺上已为人们所熟知，这些材料可用来作予压保护性材料、光刻胶、印刷板前体等等的非浮雕或浮雕影像。过去常用于负性抗蚀剂的光敏材料是橡胶型叠氮化合物。

自从八十年代初，翁盐的光敏产酸性质得到深入研究以后，它在化学成像过程中的应用逐渐受到人们的重视，在此基础上，现已开发出一类新型的化学成像光敏材料。

如EP    282.742，EP    380.007，CN    1051520中所公开的，这一类光敏材料多形成正性影像，其特点在于它主要由鎓盐和一类可用酸降解的聚合物组成，受到光照射后，鎓盐分解产生强酸，强酸催化聚合物分解，造成曝光区与非曝光区溶解度的差别，通过显影达到化学成像的目的。

主要反应如下列方程式所示：

由于鎓盐的紫外吸收波段在200～250nm左右，因此整个曝光过程必须应用深紫外光。而且所用鎓盐为第五、第六主族元素鎓盐，阴离子为BF4、PF6、AsF6、SbF6，这些鎓盐制备较难，价格较贵。特别是金属离子有损害电子器件性能的危险。

本发明设计了一种形成负性影像的光敏材料，其组成中的聚合物-多羟基树脂（如酚醛树脂、环氧树脂、丙烯酸树脂等）在光照后鎓盐产生的强酸的催化下与交联剂发生交联反应，形成网状结构，Tg大大提高，在显影剂中溶解度改变。

如下列方程式所示：

本发明的最大特点在于通过加入敏化剂-二苯酮类化合物、安息香型化合物等使光敏材料的紫外吸收波段从单加鎓盐的200～250nm移到300～500nm，从而能够利用高压或中压汞灯作为光源，大大扩展了其使用范围。

本发明的另一最大特点是有机强酸根阴离子如烷基或芳香基磺酸根、三氟乙酸根代替了BF4、SbF6、PF6、AsF6，有机强酸根鎓盐制备容易，成本较低，反应性能良好，而且不含金属离子。

本发明所述的光敏材料主要应用于光刻胶，但决不仅仅限于此，由于它把鎓盐体系的光敏材料的紫外吸收波段从200～250nm移到300～500nm，使得高压或中压汞灯可被用作光源，因此它还可被用于紫外光固化涂料和粘合剂中，其原理与光刻胶相同，只是在曝光时不必加图形掩板罢了。

本发明将用下面的实施例进一步阐明，但并不仅限于这些实施例。

实施例1：

本实施例说明光敏材料的组成。

将下列组分混合在一起：

环氧树脂    4g

六甲氧基甲基三聚氰胺    20.5g

安息香乙醚    0.5g

二苯基硫鎓对甲苯磺酸盐    0.7g

环己酮    20ml

避光溶解，过滤，装瓶

实施例2：

本实施例说明光敏材料的组成。

将下列组分混合在一起：

甲基酚醛树脂    5g

N，N二甲氧基甲基苯胺    0.5g

二苯甲酮    0.1g

对苯硫代苯基硫鎓三氟乙酸盐    0.3g

乙二醇独甲醚    20ml

避光溶解，过滤，装瓶

实施例3：

本实施例说明洗脱影像的制备，它可以用作光刻胶的使用工艺。

将实施例1或2中配成的光敏材料涂于玻璃片上，在一稳定的空气流中于室温下干燥成膜，然后在90℃下烘烤5分钟。

将干燥后的膜通过一带有影像的掩膜在中压汞灯下曝光2分钟，曝光后在一烘箱中于100℃将此材料烘烤3分钟，冷却至室温。再把处理过的光敏材料浸于显影剂溶液中60秒种，显影剂为10%氢氧化钠水溶液。非曝光区完全被显影剂除去，而已曝光的区域仍然留在支持体上。用这种方法得到了一个质量很好的负型洗脱影像。

在已经描述了本发明之后，我们请求保护下述内容及其等同物。