[发明专利]处理暗盒和可装配该处理暗盒的成像系统无效

专利信息
申请号: 92112283.7 申请日: 1992-09-27
公开(公告)号: CN1049988C 公开(公告)日: 2000-03-01
发明(设计)人: 渡边一史;关根一美;津田忠之;池本功;山口义益;笹子悦一;野田晋弥;小林和典 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G21/18 分类号: G03G21/18;G03G15/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 张祖昌
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 处理 暗盒 装配 成像 系统
【权利要求书】:

1.一种可卸式安装在电子照相成像设备的主体中的处理暗盒,该暗盒包括:

一个电子照相感光鼓(9,9a,9b,9c);

用于使感光鼓充电的充电装置(10,10a,10b);

设置在感光鼓一侧的显影装置(12,12a至12i),其用于使用调色剂使感光鼓上形成的潜像显影;

相对于显影装置设置在感光鼓相对侧的清洁装置(13,13a至13d),其用于从感光鼓清除调色剂;

一个设置在感光鼓的一端附近,处于感光鼓的与清洁装置相同侧的充电偏压接受触头(18c),其用于与主体的充电偏压供应触头(35c)接合以接受充电偏压,从而施加在充电装置上;

一个设置在感光鼓的所述一端附近,处于感光鼓的与显影装置相同侧的显影偏压接受触头(18b),其用于与主体的显影偏压供应触头(35b)接合以接受显影偏压,从而施加在显影装置上;以及

一个设置在感光鼓的所述一端附近的感光鼓接地触头(18a),其用于接合主体的一个接地触点(35a),以便使感光鼓接地;

其特征在于:

所述感光鼓接地触头(18a)设置在感光鼓(9)的与清洁装置(13)相同侧,处于感光鼓(9)的所述一端的纵向内侧。

2.如权利要求1所述的处理暗盒,其特征在于:所述充电偏压接受触头(18c)设置在感光鼓(9)的所述一端的纵向内侧。

3.如权利要求2所述的处理暗盒,其特征在于:所述充电偏压接受触头(18c)和感光鼓接地触头(18a)设置在感光鼓(9)的所述一端的纵向内侧相同距离处。

4.如权利要求1所述的处理暗盒,其特征在于:所述显影偏压接受触头(18b)相对于感光鼓(9),设置在充电偏压接受触头(18c)和感光鼓接地触头(18a)的纵向外侧。

5.如权利要求1所述的处理暗盒,其特征在于:所述感光鼓接地触头(18a)设置得在径向上比充电偏压接受触头(18c)更靠近感光鼓(9)。

6.如权利要求5所述的处理暗盒,其特征在于:所述显影偏压接受触头(18b)相对于感光鼓(9)设置在感光鼓接地触头(18a)和充电偏压接受触头(18c)之间。

7.如权利要求1所述的处理暗盒,其特征在于:所述显影偏压接受触头(18b)的接触面积大于感光鼓接地触头(18a)及充电偏压接受触头(18c)的接触面积。

8.如权利要求1所述的处理暗盒,其特征在于:还包括一个接地弹簧(18a9),其连接于感光鼓接地触头(18a),并且在纵向上比感光鼓接地触头(18c)相对于感光鼓所述一端更内侧的位置上接合感光鼓(9)的内表面。

9.如权利要求1所述的处理暗盒,其特征在于:所述充电偏压接受触头(18c)、显影偏压接受触头(18b)和感光鼓接地触头(18a)在处理暗盒下朝向下方。

10.如权利要求1所述的处理暗盒,其特征在于:所述充电装置(10)包括一个抵靠感光鼓(9)的充电辊。

11.如权利要求1所述的处理暗盒,其特征在于:所述清洁装置(13)包括一个抵靠感光鼓(9)的清洁刮板(13a)。

12.如权利要求1所述的处理暗盒,其特征在于:所述显影装置包括一个显影辊(12d),其用于在感光鼓(9)转动时向感光鼓(9)供应调色剂。

13.如权利要求1所述的处理暗盒,其特征在于:还包括相互可分开地相连接的上、下框架(14,15),以及安装在下框架(15)上的一个感光鼓支承件(26),上框架(14)支承充电装置(10),下框架(15)支承清洁装置(18)和显影装置(12),充电偏压接受触头(18c)安装在上框架(14)上,显影偏压接受触头(18b)和感光鼓接地触头(18a)安装在感光鼓支承件(26)上,感光鼓支承件(26)支承感光鼓(9)的所述一端。

14.如权利要求13所述的处理暗盒,其特征在于:所述显影装置(12)包括一个显影辊(12d),其用于在感光鼓转动时向感光鼓(9)供应调色剂,所述显影装置(12)还包括设置在所述显影辊(12d)中的一个磁铁(12c),该磁铁的一端由感光鼓支承件(26)支承。

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